Occasion KLA / TENCOR 2367 #293817504 à vendre en France

KLA/TENCOR 2367 Masque et Wafer L'équipement d'inspection est un système de métrologie et d'inspection automatisé des wafers et des photomasques de haute précision spécialement conçu pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. L'unité fournit une solution rapide et fiable pour l'inspection des surfaces photomasques et des plaques de silicium nues sur les lignes de production. La machine KLA 2367 utilise une technologie de pointe à jet d'encre pour déposer un réseau d'inspections fluorescentes Ultraviolet (UV) sur un photomasque ou une plaquette. Ces marqueurs sont alors éclairés par une source lumineuse hyperspectrale qui génère un motif de frange qui est imaginé par une caméra réseau complémentaire à couplage de charge (CCD). Le motif de frange est utilisé pour estimer le profil de surface du photomasque ou de la plaquette et est comparé à une spécification définie par l'utilisateur. L'outil utilise ensuite des algorithmes logiciels pour traiter et analyser les données afin de détecter toute anomalie ou caractéristique de surface. L'actif Masque et Wafer Inspection TENCOR 2367 présente plusieurs avantages qui contribuent à améliorer la précision et la productivité de la production de semi-conducteurs. Le modèle se compose de plusieurs caméras CCD qui sont agencées pour fournir un champ de vision optimal et la profondeur de mise au point pour la reconnaissance du motif de masque. Cela garantit une plus grande précision de mesure. Pour l'inspection des plaquettes, l'équipement utilise la spectroscopie UV pour détecter la planéité des plaquettes, la chaîne, le pinspotting et la hauteur des marches. Le système est programmé pour détecter les défauts communs tels que les ruptures de ligne, le pontage de porte et les nodules d'oxyde. De plus, l'option d'automatisation facultative permet à l'unité de correspondre automatiquement aux positions des plaquettes ou des masques par rapport à la source lumineuse pour une inspection précise. 2367 Masque et Wafer Inspection machine est une solution de pointe, amélioration de la productivité qui permet aux fabricants de semi-conducteurs de réduire leurs coûts globaux d'inspection tout en assurant le contrôle de la qualité de leurs produits. Les puissants algorithmes logiciels de l'outil fournissent une véritable analyse 3D des plaquettes et des photomasques pour fournir des résultats très précis. En outre, il peut être configuré avec un module d'automatisation optionnel pour améliorer le flux de travail et augmenter le débit de production.