Occasion KLA / TENCOR 2367 #9029088 à vendre en France

KLA/TENCOR 2367 Mask and Wafer Inspection Equipment est une plate-forme de métrologie de production conçue pour soutenir diverses applications d'inspection des défauts, de superposition et de métrologie sur CD. Le système comprend un illuminateur de champ lumineux avec des classes de lumière réfléchies et transmises, un appareil photo numérique et une puissante capacité d'alignement optique à l'échelle nanométrique. Cette unité est conçue pour accueillir toutes les tailles de masques et de plaquettes de 2 à 12 pouces masques et de plaquettes avec une gamme de débit jusqu'à une résolution d'entrée maximale de 50 microns. KLA 2367 Masque et Wafer Inspection Machine répond aux besoins exigeants de l'industrie pour le contrôle des processus et l'inspection totale des défauts grâce à une combinaison de caractéristiques de conception et de performance avancées. L'outil offre un alignement automatique très rapide de la machine et permet la capture d'images haute résolution en plein champ à l'aide d'un illuminateur de champ lumineux avec des classes de lumière réfléchie et transmise. Il comprend également un examen automatisé des défauts avec une classification des motifs et un examen algorithmique des défauts et un classement des défauts avec des données CD et masques de contact en entrée par rapport aux résultats de simulation. L'optique avancée de TENCOR 2367 minimise les variations dans les mesures de CD et de superposition de puce à puce et au cours de la production. De plus, les capacités d'alignement/focalisation de l'actif permettent de placer avec précision le masque ou la plaquette ainsi que l'alignement à l'intérieur de chaque plan. Le logiciel intégré de reconnaissance des motifs permet une classification rapide des défauts de la plaquette de masque et la révision algorithmique des défauts avec la plaquette CD et les données de masque de contact en entrée. Le modèle 2367 fonctionne également avec une gamme d'applications logicielles et d'outils pour l'acquisition et l'intégration d'images, l'analyse d'échantillons/processus, la gestion des données et l'établissement de rapports. Chacune de ces applications fournit une capacité intégrée de recueillir, d'analyser et de communiquer les objectifs de chaque projet de métrologie de wafer. Le logiciel est conçu pour répondre aux exigences du client en matière de portabilité, de flexibilité et d'évolutivité. KLA/TENCOR 2367 est conçu pour être une solution de métrologie fiable et rentable pour les nœuds de technologie de pointe. L'équipement fournit un fonctionnement intelligent sans intervention manuelle et des retours automatisés en temps réel et des diagnostics pour garantir une performance de mesure optimale. Le système intégré est conçu pour une mise en place rapide et des transitions sans faille d'une plaquette à l'autre, ce qui facilite la production de résultats d'inspection de haute qualité et robustes.