Occasion KLA / TENCOR 2367 #9189551 à vendre en France
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Vendu
ID: 9189551
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Patterned wafer inspection system, 12"
Wafer calibration kit including DSW & shiny
Hardware options:
Hermos (2 CID devices)
Advantag (2 CID devices)
KEYENCE BCR Singlewire (2 CID devices)
Interlocks:
Safety Interlock for open panel
Safety Interlock for lamp
Exhaust:
600 ft3/min
100 ft3/min
1300 ft3/min
Integrated mini-environment
FEC Computer system
Intel® Pentium® 4 CPU 3.00GHz
2GB Memory (RAM)
Dell computer system
Intel®Xeon™ CPU 3.4GHz
2.48GB Memory (RAM)
DVD ROM
Mouse
Keyboard
HSMS/GEM SEMI E37 Compliant ethernet interface:
HSMS (E5 / E30 / E37)
GEM/SECS Automation interface (E4 / E5 / E30)
SEMI E84
SEMI E116
Hokuyo sensors:
Overhead transport (OHT)
Remote guided vehicles (RGV/AGV)
Auto switch for dual use environments
Basic automation package: E39, E87, E90 (Carrier management/wafer tracking)
Advanced automation package: E40, E94 (Process job, control job)
Windows 2000 based operating system SP4
Spatial population analysis :
Power options:
Array segmentation
Patch images: 64x64
Pixelperfect
RBB
RBMT
Sensitivity tuner
NPA
Photo option:
FEM
PWQ
Interface:
Data transfer
DVD-R
Ethernet
Hardware optic :
BB Visible pixels (0.62 mm, 0.39 mm, and 0.25 mm)
BB / I-Line / G-Line UV pixels (0.20 mm, 0.16 mm, and 0.12 mm)
Edge contrastTM
1600 MPPS Image computer
Array and random modes
High mag review optics
Anti-blooming TDI
High resolution review camera
Facilities:
Power: 2V5W-N, 18KW
Vw: 25 in Hg
CDA: 5 Sft3/min
Missing parts:
(4) Image computer nodes
2007 vintage.
KLA/TENCOR 2367 est un équipement efficace et de haute qualité d'inspection des masques et plaquettes développé par KLA Corporation. KLA 2367 utilise une technologie de pointe pour détecter rapidement les défauts au niveau de la plaquette et du masque, ainsi que pour fournir une analyse informative des résultats. Ce système comprend une unité de projection laser à double faisceau qui détecte indépendamment les spécifications des deux côtés du masque, sur laquelle il produit une analyse rapide et précise des motifs du masque. En outre, TENCOR 2367 intègre un certain nombre de méthodes optiques avancées, telles que la scatterométrie, et dispose de plusieurs processus automatiques pour assurer la précision et l'optimisation du contrôle. 2367 fournit une imagerie haute résolution de la plaquette et réduit le temps et le coût associés à la détection des défauts. En faisant varier les niveaux d'intensité sur chaque pixel, il détecte facilement des défectuosités subtiles - même des particules minuscules ou des lignes minces dans l'image du masque. Il est également capable de détecter des motifs en saillie ou cachés sur le masque, des défauts de sous-pixels, des défauts électriques et optiques, des désalignements de superposition et de superposition. De plus, la machine KLA/TENCOR 2367 peut générer des cartes de défauts qui identifient les motifs de masques et les domaines d'amélioration potentielle. L'outil KLA 2367 offre également plusieurs fonctionnalités et options qui améliorent sa fonctionnalité et son efficacité. Par exemple, il comprend un puissant logiciel de traitement d'image qui peut générer des données de volume 3D à partir d'images SEM (microscope électronique à balayage). Il offre également des réglages de température de mesure personnalisables pour assurer la précision avec différentes plaquettes, ainsi que la capacité de contrôler la zone de détection de poussière, l'intensité laser UV, le temps d'exposition, et plus encore. De plus, il est compatible avec différents types d'échantillons, tels que des plaquettes et des masques, pour assurer un traitement précis et rapide. En résumé, TENCOR 2367 est un outil avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui utilise une technologie de pointe pour détecter et analyser les défauts. Il offre des résultats de détection rapides et fiables qui peuvent générer des cartes et des images de défauts hautement informatives. Il comprend également une gamme de fonctionnalités qui peuvent être personnalisées pour assurer la précision et la précision. Avec ses capacités d'imagerie haute résolution et de traitement d'image, 2367 est idéal pour l'industrie des semi-conducteurs et de la fabrication de masques.
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