Occasion KLA / TENCOR 2370 #9184317 à vendre en France
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ID: 9184317
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Wafer inspection system, 8"
2002 vintage.
KLA/TENCOR 2370 est un équipement de nouvelle génération de masque et d'inspection de plaquettes qui offre une inspection haute résolution pour les réticules lithographiques et les plaquettes. KLA 2370 offre des capacités d'imagerie supérieures utilisant des sources d'éclairage laser avancées, y compris un laser à taches variables et un éclairage de champ lumineux. Le système d'imagerie permet d'inspecter l'ensemble du champ de vision, des images basse tension aux images ultra haute résolution. L'unité offre également des capacités automatiques de reconnaissance des motifs et de classification des défauts, permettant l'identification rapide et précise des défauts mineurs invisibles aux technologies classiques. TENCOR 2370 offre des capacités de traitement et d'analyse d'images en deux étapes qui permettent une inspection plus rapide des plaquettes. La première étape de l'analyse utilise des algorithmes propriétaires pour comparer le motif balayé au motif de référence, permettant une imagerie rapide à différentes résolutions. La deuxième étape de l'analyse utilise une combinaison d'algorithme déphasé conçu sur mesure et un moteur de classification de motifs pour détecter et classer les défauts. Cette combinaison de techniques garantit la plus grande précision dans l'identification des défauts. 2370 est conçu pour être utilisé dans des environnements de production et de développement. Il supporte un large éventail de substrats, y compris des substrats en verre, de l'arséniure de gallium (GaAs) et des réticules lithographiques. La machine KLA/TENCOR 2370 est conçue pour une intégration facile avec des systèmes de lithographie de pointe et peut être utilisée conjointement avec des équipements de métrologie, d'inspection et d'examen des défauts. L'outil offre des capacités d'automatisation avancées, ainsi que des rapports avancés et des analyses. KLA 2370 offre une large gamme de fonctions de capture et d'analyse d'images, qui permettent des délais de traitement plus rapides et un taux de couverture des défauts plus faible. Il permet également de réduire davantage les défauts grâce à des algorithmes avancés de réduction des défauts. De plus, le modèle offre une évolutivité et une flexibilité améliorées pour répondre à diverses exigences de production. Dans l'ensemble, TENCOR 2370 est un équipement avancé et puissant offrant une qualité d'image supérieure, une inspection rapide des plaquettes et une précision de classification des défauts inégalée pour l'inspection des masques et des plaquettes. Le système est conçu pour faciliter l'intégration et est évolutif pour les environnements de production et de développement. Les algorithmes avancés de réduction des défauts permettent d'améliorer la précision de jonction et le taux de couverture des défauts.
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