Occasion KLA / TENCOR 239E #9041907 à vendre en France

KLA/TENCOR 239E Masque et Wafer Inspection Equipment est l'outil de pointe de l'industrie pour l'inspection des propriétés optiques et électriques critiques des masques et des composants de wafer utilisés dans la fabrication de circuits imprimés et de dispositifs semi-conducteurs. KLA 239E utilise des technologies avancées d'inspection tactile laser et vision machine, ainsi que des systèmes de métrologie exclusifs innovants, pour détecter et caractériser les défauts jusqu'à des tailles de sous-microns, y compris les raccourcis pin/pad, les résidus, les ponts, les ruptures, les désalignements, et plus encore. Conçu pour faciliter l'utilisation et les performances, TENCOR 239E est un système multi-capteurs équipé de puissance simultanée, de foudre et d'inspection optique. Il dispose d'un alignement automatique grâce à la technologie TetraTile, d'une imagerie haute résolution et de capacités de double vision uniques qui permettent un examen sous deux angles différents. En utilisant simultanément les emplacements OmniView et laser, les utilisateurs peuvent détecter des défauts même dans les cibles de masque les plus difficiles. L'unité dispose également d'une interface utilisateur simplifiée, avec un affichage intuitif de la carte des plaquettes et des modèles de puces programmables améliorés. La conception optique tribrid unique de 239E comprend trois composants - un laser, une caméra CCD et un masque - pour capturer des images sophistiquées de composants de plaquettes et détecter les défauts les plus infimes. Il peut capturer des images de résolution de niveau micron avec 65 pixels turquoise par 100um. Le mécanisme de puissance à LED de KLA/TENCOR 239E augmente le débit et la fiabilité en assurant des mesures précises des pixels à 1,0 mm. Pour la métrologie, KLA 239E est intégré avec le logiciel Suss NextrémAnalysis qui permet aux utilisateurs de contrôler les dimensions critiques, la hauteur et la taille des caractéristiques, le profil des plaquettes, l'axe central et l'enregistrement des bords. Ce puissant logiciel permet aux utilisateurs de déterminer la forme 3D des composants complexes et d'utiliser les résultats de mesure pour créer des rapports et analyser des données. Dans l'ensemble, TENCOR 239E Mask and Wafer Inspection Machine offre des capacités de détection et de mesure des défauts rapides, efficaces et fiables pour améliorer la qualité et le rendement. C'est la solution idéale pour toute organisation à la recherche d'un outil d'inspection sophistiqué et précis.