Occasion KLA / TENCOR 2551 #293616226 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR 2551 Masque et Wafer Inspection est un système d'inspection optique automatisé conçu pour identifier les défauts dans une variété de masques et de wafers semi-conducteurs. Cette unité utilise une combinaison d'optiques, une machine à mouvement et des algorithmes avancés de reconnaissance de motifs pour détecter et identifier les défauts dans le masque et le rétroéclairage de la plaquette. KLA 2551 peut fournir un support de détection de défauts pour toute la gamme de la technologie de production de masques et de plaquettes, allant de l'aluminium simple aux structures plus complexes multi-métaux, multi-couches résistances et condensateurs. L'outil d'inspection TENCOR 2551 est composé de trois composantes principales : un actif de projection, un modèle de mouvement XYZ et une source lumineuse. L'équipement de projection se compose de trois lentilles : une lentille objective, une lentille de projection die-to-chip et une lentille de projection de champ. L'objectif projette l'image de la matrice sur la puce, tandis que l'objectif de projection est utilisé pour projeter l'image du masque sur la puce. L'objectif de projection de champ, à son tour, est utilisé pour projeter une image plus grande de la plaquette entière sur la puce. Le scanner peut scanner une image plein champ de la plaquette à des résolutions définies par l'utilisateur et la comparer à un motif de masque standard. De cette façon, 2551 peut détecter et identifier les défauts rapidement et avec précision. En outre, il peut être utilisé pour détecter rapidement et avec précision les erreurs dépendant du motif causées par l'épaisseur incorrecte du film, la flexion, le mauvais enregistrement, et d'autres problèmes. Le système de mouvement est composé d'un étage linéaire à deux axes et de deux étages rotatifs. Cela permet à l'unité de projection de se repositionner efficacement et avec précision à la position souhaitée pour effectuer des mesures et des inspections. La source lumineuse peut être choisie en fonction de la plage de signaux et de la résistance du signal pour différents matériaux. KLA/TENCOR 2551 est équipé d'une suite logicielle avancée qui utilise des algorithmes de traitement d'images et d'intelligence artificielle (IA) pour détecter et identifier les défauts. Cela comprend des algorithmes permettant d'identifier et de catégoriser les défauts par taille, forme, motif et orientation ; pour comparer les défauts à leurs points de référence ; pour identifier les défauts grâce à la reconnaissance des motifs ; et pour déterminer leur véritable nature et leur emplacement. De plus, la machine est capable de générer rapidement et avec précision un rapport statistique pour chaque défaut constaté. En résumé, l'outil KLA 2551 Masque et Wafer Inspection est un outil d'inspection automatisé très avancé conçu pour détecter et identifier rapidement et avec précision les défauts dans une variété de masques et de plaquettes semi-conducteurs. Il dispose d'une combinaison d'éléments optiques, de mouvements avancés et de sources lumineuses, et d'algorithmes logiciels alimentés à l'IA pour garantir les résultats les plus précis.