Occasion KLA / TENCOR 2552 #293800563 à vendre en France

KLA/TENCOR 2552 Masque & Wafer Inspection Equipment est une solution d'inspection optique haute performance conçue pour détecter les défauts dans les masques à semi-conducteurs, les plaquettes et les photomasques. Avec ses hautes capacités d'imagerie de contraste, KLA 2552 permet de réduire rapidement et automatiquement les fausses alarmes de défaut, améliorant la précision et le débit des inspections. Les technologies optiques de pointe du système comprennent la détection et l'imagerie de largeurs de lignes ultra fines et de surfaces planes, des ajustements de contraste en temps réel très sensibles, la reconnaissance automatique des caractéristiques et des défauts, et l'analyse à grande échelle des petites caractéristiques. Toutes ces fonctionnalités sont intégrées dans une plateforme modulaire unique avec un processus d'inspection rapide. Au cœur de TENCOR 2552 se trouve sa technologie d'imagerie de contraste avancée, qui permet à l'unité de détecter et de classer avec précision les caractéristiques et les défauts dans divers substrats de masque et de plaquettes. Avec sa machine d'illumination de source simple, l'outil est capable de découvrir extrêmement petit 0.1μm les lignes et les espaces, plus petits que l'œil humain peut voir. Les puissants détecteurs de contraste mesurent et classent avec précision le contraste de chaque caractéristique ou défaut, ce qui permet à l'actif d'identifier et d'indiquer ceux qui ne correspondent pas à des critères prédéterminés. Le modèle utilise également sa fonction brevetée de mesure de l'espace ligne pour mesurer avec précision les espaces critiques entre les paires de lignes et personnaliser les paramètres de contraste pour une reconnaissance cohérente et précise des défauts. Cela fournit un processus de haute qualité et aide à éliminer les fausses alarmes. En outre, 2552 offre une large gamme de modes d'imagerie, y compris le champ lumineux, le champ noir, la couleur et polarisé, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs besoins d'imagerie pour répondre à différentes exigences de substrat et de processus. Dans l'ensemble, KLA/TENCOR 2552 Mask & Wafer Inspection Equipment fournit le plus haut niveau de précision et la plus large gamme de capacités d'imagerie disponibles en inspection optique. Les technologies optiques avancées et le processus de détection automatisé du système permettent une inspection rapide, précise et fiable des substrats des masques et des plaquettes.