Occasion KLA / TENCOR 2608 #9386377 à vendre en France

KLA/TENCOR 2608 Mask & Wafer Inspection Equipment est une plate-forme automatisée d'inspection et de métrologie des plaquettes adaptée pour le contrôle avancé des processus et la surveillance des lignes des plaquettes de 200mm et 300mm. Le système est conçu pour des mesures précises des caractéristiques critiques sur les photomasques, les plaquettes semi-conductrices et les écrans plats. Son grand champ de vision, sa résolution nanométrique et ses capacités à haut débit en font une solution idéale pour contrôler la lithographie des plaquettes et des masques. KLA 2608 comprend un capteur d'imagerie de ligne CCD couleur sensible, une optique haute performance et un étage de plaquette haute résolution. Le capteur d'imagerie de ligne CCD dispose d'une taille de pixel inférieure à 8µm, permettant des images haute résolution des défauts sur les surfaces du masque et de la plaquette. En outre, TENCOR 2608 offre un grand champ de vision de 4 x 3 pouces, fournissant une vue d'ensemble expansive de l'échantillon, permettant une identification et un ciblage précis des défauts. 2608 est capable d'effectuer diverses mesures sur des surfaces de masque et de plaquettes, telles que l'épaisseur du film, l'indice de réfraction, la topographie, la vérification de la superposition, les largeurs de ligne, les mesures de ligne et d'espace, la capture des ruptures de ligne, la manipulation de la détection de ligne sombre et la vérification des lignes larges. En outre, il propose des algorithmes spécialisés pour la détection et la révision automatisées des défauts, améliorant la productivité et la précision. KLA/TENCOR 2608 est équipé d'une unité de transport de plaquettes à grande vitesse capable de charger et de décharger jusqu'à quatre plaquettes à la fois, ce qui permet des capacités à haut débit. KLA 2608 est également livré avec un logiciel intégré de gestion des processus pour la programmation automatisée des tâches, l'accès à distance, la gestion centralisée des données et l'examen. KLA 2608Mask & Wafer Inspection Machine offre une précision, une productivité et une répétabilité accrues pour l'inspection et la métrologie des plaquettes et des photomasques semi-conducteurs. Ses caractéristiques puissantes, notamment le capteur d'imagerie CCD avancé, l'optique haute performance, le champ de vision de 4 x3 pouces, la résolution nanométrique et les capacités de transport de wafer à grande vitesse, conviennent à un contrôle de processus de wafer et de masque de haute précision.