Occasion KLA / TENCOR 2800 #9216009 à vendre en France

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ID: 9216009
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Inspection system, 12" (2) Loadport YASKAWA Robot 2007 vintage.
L'équipement d'inspection des masques et plaquettes KLA/TENCOR 2800 est conçu pour assurer un contrôle des processus semi-conducteurs sur site à haut débit et haute précision. KLA 2800 exploite l'inspection 3D et l'analyse avancée pour surveiller et améliorer continuellement le succès des processus. Le système d'inspection des plaquettes TENCOR 2800 est conçu pour évaluer rapidement et avec précision les conditions du processus fab, y compris la dimension et la position du masque (MDP, DPM) et la topographie du film réfléchissant. L'unité utilise des techniques de caractérisation chimique et physique pour mesurer les dimensions critiques et l'épaisseur des couches de photorésist et de dépôt sur les plaquettes. Il dispose d'un flux de travail automatisé, combinant l'optique et le matériel pour obtenir une répétabilité et une vitesse élevées. 2800 machine est équipée de plusieurs composants matériels, notamment un Split-Domino Mask Aligner, un outil de mesure haute résolution, et un outil de vision intégrant à la fois des algorithmes morphologiques et d'autres algorithmes de reconnaissance de motifs. L'outil 3D-inspection permet de mesurer et d'analyser rapidement les CD/OPC. En outre, KLA/TENCOR 2800 wafer inspection actif dispose d'une chambre de métrologie intégrée qui extrait et analyse les caractéristiques physiques des couches de film. Ceci permet de s'assurer que les mesures de paramètres optiques des couches de substrat respectent les spécifications spécifiques du client. Le modèle KLA 2800 d'inspection des masques et plaquettes offre aux clients une puissante suite de capacités d'analyse et d'extraction de données avancées. Cela comprend la capacité de détecter les anomalies de processus et de suivre les paramètres clés au fil du temps pour détecter les tendances à l'amélioration des processus. Les utilisateurs peuvent définir des règles personnalisées pour la détection des défauts de couche de matériau, maximiser la cohérence des processus entre les plaquettes et automatiser la classification des signaux. TENCOR 2800 Masque et Wafer Inspection Equipment assure une caractérisation précise et fiable des processus à des vitesses plus élevées que jamais. Il offre le rendement, la précision et la répétabilité de processus de pointe de l'industrie. Le système a révolutionné le processus de fabrication des semi-conducteurs et a permis aux opérateurs fab d'optimiser leurs processus pour un succès à long terme.
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