Occasion KLA / TENCOR 2810 #9169784 à vendre en France

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ID: 9169784
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Bright field defect wafer inspection system, 12" Equipment status: In-line Type: Non SMIF Automation online components: GEM Wafer type: Notch at 6 o'clock Software OS: Windows Software: Y2K Competion 2008 vintage.
KLA/TENCOR 2810 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour l'inspection précise et automatisée de photomasques et de plaquettes avec des caractéristiques critiques de défaut. Ce système combine d'excellentes performances d'imagerie, des capacités de métrologie avancées et un logiciel convivial, fournissant une solution adaptée aux exigences exigeantes de l'inspection et de l'examen des semi-conducteurs. KLA 2810 intègre les dernières technologies matérielles et logicielles pour fournir des données fiables et reproductibles, tout en offrant un positionnement et un alignement précis pour assurer des démarrages sans défaut et un fonctionnement précis. L'unité est facile à mettre en place et à utiliser, et ses systèmes de mesure automatisés, la reconnaissance optique des motifs et les capacités avancées d'examen des défauts permettent une vérification rapide et précise même des conceptions de plaquettes les plus sophistiquées. La configuration 5 axes de TENCOR 2810 permet d'accéder à tous les composants principaux, fournissant un enregistrement précis et répétable du masque. La machine comprend une vision stéréo binoculaire à deux étages, permettant une imagerie précise et répétable sur des structures complexes et des caractéristiques difficiles ou impossibles à visualiser au microscope traditionnel. 2810 utilise la dernière technologie d'éclairage, y compris le champ noir, l'angle oblique et l'outil d'éclairage LED breveté KLA, ce qui réduit la torche lumineuse et améliore la visibilité des défauts. Il peut rapidement inspecter de grandes zones et identifier l'emplacement des défauts paramétriques à l'aide de ses algorithmes de reconnaissance de motifs pas à pas embarqués. De plus, KLA/TENCOR 2810 est capable d'inspecter les couches photosensibles du masque, réduisant ainsi les fausses détections. L'UCK 2810 comprend également une série complète d'outils logiciels, y compris le logiciel de gestion des données par défaut TENCOR, permettant l'analyse et l'examen de données provenant de sources multiples. L'actif dispose également d'une interface utilisateur puissante pour la collaboration et l'examen des défauts. Avec sa conception innovante, ses capacités d'imagerie avancées, ses outils logiciels polyvalents et son fonctionnement convivial, le modèle d'inspection des masques et plaquettes TENCOR 2810 est un outil inestimable pour la révision et l'analyse des défauts des semi-conducteurs.
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