Occasion KLA / TENCOR 2830 #293600871 à vendre en France

KLA/TENCOR 2830 Masque et Wafer Inspection Equipment est un outil puissant et fiable pour l'inspection automatisée des masques et wafers. Ce système utilise des techniques avancées d'acquisition et d'analyse d'images pour détecter les défauts, les erreurs de fabrication et les contaminants dans tout type de produit semi-conducteur. L'unité se compose d'une large gamme de composants. Les pièces principales comprennent un cadre principal, une unité d'imagerie, un lecteur Wafer ID, un grand étage, une plate-forme de table rotative, un étage x-y-z, et une suite complète d'optiques. L'unité d'imagerie comprend une caméra haute résolution, un filtre couleur et un logiciel embarqué pour le traitement d'image. Le lecteur Wafer ID est capable de reconnaître et de suivre les plaquettes pendant l'inspection et peut être personnalisé en fonction des besoins spécifiques des utilisateurs. La plate-forme de table rotative permet une mesure rapide et précise des grandes surfaces tout en maintenant une grande précision sur toute la scène. L'étape x-y-z déplace la plaquette dans trois directions pour s'assurer que toutes les zones de l'échantillon sont inspectées à fond. La suite optique comprend une sélection de lentilles hautes performances pour différentes exigences d'imagerie, telles que la profilométrie optique, l'imagerie de surface et l'imagerie 3D. La suite optique comprend également une gamme d'options avancées de capteurs qui permettent à la machine de détecter les défauts à partir de différents matériaux, tels que les métaux, la céramique et les composés organiques. Cette fonctionnalité permet une inspection complète de l'échantillon et la détection des plus petites imperfections. Le logiciel de l'outil est conçu pour offrir un fonctionnement convivial et une détection efficace des défauts. Divers outils sont fournis pour l'analyse automatisée et la comparaison d'images, ainsi que pour les opérations manuelles. Grâce à l'analyse optique, électrique et matérielle, l'actif est capable de détecter chaque type de défaut. Il offre également des capacités de détection robustes, avec le contrôle de variables telles que la résolution d'image, le taux d'impulsion et la taille de l'échantillon. Dans l'ensemble, KLA 2830 Masque et Wafer Inspection Model est un outil puissant et rentable pour l'assurance qualité dans l'industrie des semi-conducteurs. Doté de technologies avancées d'imagerie, d'optique et de capteurs, l'équipement offre une gamme de capacités pour la détection, l'analyse et le traitement des défauts. La gamme de caractéristiques et la conception conviviale font de TENCOR 2830 un choix idéal pour toute tâche d'inspection.