Occasion KLA / TENCOR 3905 #9310915 à vendre en France

KLA/TENCOR 3905 Masque et Wafer Inspection Equipment est un outil de pointe qui est construit pour détecter et débusquer les défauts de matériaux sur les substrats plats pendant le processus de fabrication des semi-conducteurs. Le système est composé de plusieurs composants qui permettent la mesure, l'identification, la classification et la réparation des défauts. L'unité utilise une grande variété de technologies et d'algorithmes pour assurer une précision et des performances élevées. La partie principale de la machine est l'outil d'imagerie optique à diffraction qui permet la visualisation simultanée de plusieurs couches à l'intérieur des substrats pendant le processus de contrôle. Cet atout adopte une approche à réflexion multiple en longueur d'onde pour permettre la détection de défauts à plusieurs couches. Il comprend également un modèle de contraste d'illumination (PICON), qui utilise des techniques de détection de bord et de champ sombre pour améliorer la capacité de localisation des défauts. En outre, l'équipement comprend également des modules logiciels pour le traitement des données, la détection des caractéristiques, la classification, le tri et la déclaration. KLA 3905 Mask & Wafer Inspection System intègre une unité d'imagerie à spectre complet qui comprend plusieurs composants optiques, tels qu'une source lumineuse, un détecteur et des filtres optiques pour mieux identifier et détecter les défauts. Cette machine utilise une technique innovante d'éclairage de champ lumineux adaptatif pour garantir des performances maximales pour les inspections de grande surface. Il comporte également une métrique pour classer chaque défaut dans l'une des nombreuses catégories afin d'améliorer la classification et la réparation des défauts. L'outil intègre une nouvelle classe de techniques d'imagerie en temps réel pour améliorer la vitesse d'inspection des substrats. Cela comprend une reconstruction de défaut profond qui utilise un réseau de neurones profonds (DNN) avancé pour reconstruire des fonctions de défaut individuelles. Le DNN est capable de générer une représentation 3D du défaut à partir d'une combinaison de données d'imagerie. Cette technique d'imagerie en temps réel permet d'identifier et de trier les défauts plus rapidement, ce qui permet d'économiser du temps et des coûts. TENCOR 3905 Masque et Wafer Inspection Asset comprend également plusieurs optiques auto-focus et zoom. Il prend en charge une grande variété de résolutions permettant aux utilisateurs de mieux distinguer et analyser les défauts uniques. Avec un grossissement approprié, le modèle peut identifier de nombreux défauts. L'équipement comprend également une interface Web interactive conviviale, permettant aux utilisateurs de suivre les opérations en temps réel et d'effectuer les ajustements nécessaires. 3905 Masque et Wafer Inspection System s'est déjà avéré être un outil efficace et rentable pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est fiable et produit des résultats cohérents pour améliorer la qualité globale et les performances de l'électronique. Avec le grand potentiel qui vient avec cette unité, l'avenir semble brillant en termes d'amélioration du processus de fabrication des semi-conducteurs.