Occasion KLA / TENCOR 45 #38072 à vendre en France

KLA/TENCOR 45 Masque et Wafer Inspection Equipment est conçu pour être utilisé dans les processus de fabrication de wafer à la fois pour la production et la recherche et le développement. Le système est capable d'inspecter jusqu'à 45 wafers KLA simultanément à une résolution allant jusqu'à 1 micron par pixel. L'unité dispose d'un étage 5 axes qui peut être programmé pour parcourir la plaquette, permettant une couverture complète sans nécessiter d'étapes supplémentaires. La machine est équipée d'une variété de technologies de capture et de traitement d'images, y compris l'éclairage RVB avancé, infrarouge et ultraviolet (UV), et un outil interférométrique coaxial. L'illumination RVB est utilisée pour fournir une imagerie à haute gamme dynamique, tandis que l'infrarouge et l'éclairage UV permettent à l'actif d'inspecter les longueurs d'onde non visibles à l'œil nu. Le modèle interférométrique coaxial permet à l'utilisateur de capturer des images tridimensionnelles de la surface de la plaquette. L'équipement d'inspection est contrôlé par une interface utilisateur graphique (interface graphique) fonctionnant sur un PC Windows. Cela permet à l'utilisateur de naviguer facilement dans le système, d'afficher et d'analyser des images et d'exporter les résultats pour un examen plus approfondi. L'unité est capable de détecter un large éventail de défauts, y compris des particules, des rayures, des enveloppements, des courts-circuits et des circuits ouverts, des défauts de pont et de forme. De plus, la machine fournit une rétroaction utile sur les processus en fournissant des estimations automatisées des rendements et une analyse des données spatiales pour les tâches de superposition et de mini-volume. L'outil est hautement configurable, permettant aux utilisateurs de configurer et personnaliser leurs propres paramètres et profils d'inspection. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser l'actif pour leur application spécifique. Le modèle prend également en charge une gamme de formats de fichiers, donnant aux utilisateurs la flexibilité de visualiser et d'analyser leurs données à l'aide des derniers outils logiciels tiers. En résumé, TENCOR 45 Mask & Wafer Inspection Equipment offre une plate-forme puissante, mais flexible, pour l'inspection et l'analyse des wafers de production et de recherche. Le système dispose d'un large éventail de capacités, allant de la capture et de l'analyse d'images à la détection des défauts et à la rétroaction. Grâce à son interface graphique facile à utiliser et à sa large gamme de formats de fichiers, l'unité offre aux utilisateurs une grande flexibilité et un haut degré de contrôle sur leurs processus d'inspection des plaquettes.