Occasion KLA / TENCOR 50-03000 #9384877 à vendre en France

KLA/TENCOR 50-03000 Masque & Wafer Inspection Equipment est un outil automatisé d'inspection de surface pour des applications telles que la fabrication de plaquettes implantables, la fabrication de puces de processeurs optiques, la fabrication de dispositifs de puissance et les dispositifs semi-conducteurs avancés. Le système permet d'assurer l'intégrité et l'uniformité de ces composants en fournissant une analyse détaillée sans contact de différentes tailles de pièces finies. L'unité utilise la technologie d'imagerie et de balayage infrarouge à haute résolution pour détecter avec précision un large éventail de défauts tels que les hillocks, les vides, la séparation noeud-dendrite, les hauteurs de pas, les caractéristiques squelettiques et les motifs lithographiques. En outre, la machine peut détecter plusieurs types de défauts, y compris des caractéristiques absolues, fausses et segmentées. L'outil est équipé d'un atout d'imagerie avancé avec un objectif F/1.4 et une fenêtre polarisée 16x séparateur de faisceau, capable de fournir une résolution supérieure qui est inégalée par la plupart des systèmes de balayage et d'imagerie classiques. Il dispose également d'un modèle de détection de parallélisme dichroïque double, qui peut capturer à la fois un contraste élevé et de faibles niveaux de lumière pour améliorer considérablement la gamme de détection de défauts. L'équipement utilise les dernières techniques de diffraction laser et de traitement Doppler pour augmenter le contraste et réduire les faux positifs. Son imagerie multi-spectrale lui permet de capturer avec précision un large éventail de défauts en une seule passe, sans avoir besoin de multiples balayages hors de la boîte. En outre, le système est équipé d'un algorithme avancé de recherche de défauts pour s'assurer que les défauts détectés sont correctement classés et pour fournir un rapport dédié sur les défauts pour une utilisation diagnostique. L'unité dispose également d'une suite logicielle rapide et facile à utiliser qui permet aux utilisateurs d'automatiser leurs processus et de prendre des décisions axées sur les données. Cela a simplifié le processus d'analyse et permis aux utilisateurs d'identifier et de localiser facilement les défauts ou anomalies. La suite logicielle est capable de traiter les données et le champ de vision rapidement et avec précision grâce à ses techniques d'algorithmique et d'imagerie optimisées. KLA 50-03000 Masque et Wafer Inspection Machine est conçu pour aider les fabricants à produire des appareils de wafer de meilleure qualité rapidement et efficacement. Son outil d'imagerie avancé et ses algorithmes de recherche de défauts lui permettent de détecter les défauts les plus faibles. Il dispose également d'une suite logicielle conviviale qui fournit aux utilisateurs des capacités de traitement automatisé et des données de champ de vision pour s'assurer que les produits sont toujours fabriqués selon les normes de qualité les plus élevées.