Occasion KLA / TENCOR Archer 10 XT #9258184 à vendre en France

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ID: 9258184
Style Vintage: 2001
Overlay inspection system FOUP, 12" Install type: Stand alone Run daily pm test: PZT P High voltage PZT Z gain PZT Z feedback Halogen light source PDA gain, X, Y axis Wafer surface focus and analysis patent LINNIK camera uniformity AMS camera uniformity Check shutter response time Fringes ON to OFF mean time Fringes OFF to ON mean time GEM/SECS Line conditioner, 60 Hz Power requirements: 208/230 V, 3-Phase / 1-Phase, 50/60 Hz.
KLA/TENCOR Archer 10 XT est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il permet de détecter et d'identifier rapidement et avec précision les défauts des photomasques et des plaquettes. KLA ARCHER10XT est équipé d'un système automatisé d'examen des défauts qui fournit une analyse complète des caractéristiques suspectes, permettant aux utilisateurs d'enquêter et de corriger les défauts potentiels dans les photomasques et les plaquettes rapidement et facilement. En outre, l'unité a une grande sensibilité pour détecter de petits défauts, capable de niveaux de résolution allant de 0,7 microns à 12 microns, selon l'application. TENCOR ARCHER 10XT utilise des lasers 20X et des optiques rapides pour balayer toute la surface d'un appareil rapidement, sans nécessiter de mouvement physique de l'échantillon. La machine est conçue pour traiter une variété de types d'appareils, y compris MEMS/MOEMS, plaquettes et photomasques. Ses capacités d'imagerie sont également adaptées à une utilisation avec des structures avancées, telles que FinFET, Fin Field-Effect Transistors, et HBLED, High Brightness Light Emitting Diodes. En plus de la capacité d'imagerie, KLA/TENCOR ARCHER 10XT dispose d'une gamme de fonctionnalités logicielles sophistiquées pour augmenter la vitesse et la précision du processus d'inspection. L'outil peut être configuré pour identifier et catégoriser tous les défauts potentiels en fonction de critères préétablis, ou autrement spécifiés par l'utilisateur. Des fonctionnalités telles que le regroupement avancé des défauts, la machine exclusive d'état des défauts et la génération de défauts synthétiques fournissent une intelligence détaillée pour l'analyse avancée des données. En outre, ARCHER10XT est capable de créer des images de défaut avec des valeurs configurables d'éclairage, de contraste et de couleur, et dispose d'un puissant actif de post-traitement avec la taille automatique de défaut et le logiciel de comparaison de la mémoire de défaut. Cela permet aux utilisateurs de visualiser et de comparer facilement les variations du dispositif avant et après leur inspection. Le modèle supporte également une large gamme d'interfaces, lui permettant de s'intégrer facilement aux processus de production existants. En outre, les capacités avancées du Web et des rapports permettent aux utilisateurs d'accéder et d'analyser les données à distance. Dans l'ensemble, ARCHER 10XT est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes qui offre une détection et une analyse des défauts rapides et efficaces avec une précision supérieure. Ses logiciels riches en fonctionnalités, ses capacités d'imagerie et ses options de connectivité en font un ajout précieux pour tout environnement de fabrication de semi-conducteurs.
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