Occasion KLA / TENCOR Archer 10 #9104743 à vendre en France

KLA/TENCOR Archer 10 est un équipement d'imagerie optique de pointe conçu pour l'inspection des masques et des plaquettes. Il est idéal pour les applications semi-conductrices telles que la microscopie électronique à balayage de dimension critique (CD-SEM) et est capable de mesurer les caractéristiques critiques des circuits intégrés (IC) avec un haut degré de précision. Le cœur de KLA Archer 10 est un système de lithographie optique unique qui combine le laser, le contact et l'imagerie par faisceau électronique avec une unité de reconnaissance automatique de motifs (APR). Cela permet à TENCOR ARCHER10 d'obtenir une précision et un débit sans précédent dans la mesure de motifs extrêmement complexes. Il peut mesurer avec précision des appareils aussi petits que 0,1 microns et identifier automatiquement des motifs avec une variété de formes, de tailles et de caractéristiques différentes. TENCOR Archer 10 dispose également d'une machine d'imagerie CMOS haute résolution pour capturer jusqu'à 8K images de résolution des plaquettes et des masques. Cet outil permet une vision extrêmement haute résolution du substrat et des défauts, ce qui permet à l'utilisateur d'identifier et de résoudre tout problème avant d'entrer dans le processus de production. En outre, son actif d'analyse optique intégrée des défauts (OFA) permet de détecter et d'évaluer en temps réel les défauts des plaquettes au fur et à mesure de leur passage dans le modèle. Enfin, ARCHER10 est également équipé d'un puissant équipement d'acquisition de données qui peut recueillir et synchroniser jusqu'à quatre sources d'imagerie indépendantes. Ce système est très efficace, ce qui permet de mener des investigations approfondies sur un seul IC, comme l'analyse des défaillances d'IC ou le réglage des performances d'IC. Globalement, KLA ARCHER10 est une unité puissante et avancée conçue pour fournir une inspection fiable, précise et rapide des masques et des plaquettes. Sa combinaison de fonctionnalités embarquées, de capteurs d'image très sensibles et avancés, et ses capacités de reconnaissance de motifs en temps réel en font une machine leader dans l'inspection des semi-conducteurs.