Occasion KLA / TENCOR Archer 200 AIM #9176636 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR Archer 200 AIM masque et wafer inspection est un outil de lithographie de précision utilisé pour détecter les défauts des produits semi-conducteurs fabriqués en 200mm. Cet outil utilise l'imagerie en champ lumineux, l'imagerie en champ sombre et la diffusion de la lumière pour détecter avec précision les variations de transmissibilité optique et de réflectivité des caractéristiques décrites. Le système est capable de capturer des images haute résolution de chaque fonctionnalité pour analyser des défauts tels que le motif ou open/shorts. Cela permet une inspection complète des caractéristiques du motif litho et aide à s'assurer que des produits finis de haute qualité sont produits. L'unité KLA Archer 200 AIM dispose de deux sous-systèmes automatisés : le sous-système « Automatic Mask Inspection » (AMI) et le sous-système « Automated Wafer Inspection » (AWI). Ces deux systèmes travaillent ensemble pour donner une vue complète du processus de lithographie. L'AMI analyse les motifs et les défauts éventuels sur le photomasque avant que la plaquette ne soit exposée. Cela permet de détecter rapidement tout problème potentiel qui pourrait survenir au cours du processus de lithographie. L'AWI inspecte la plaquette après avoir été exposée et développée. Cela permet une inspection plus détaillée des modèles, ainsi que la mesure de tout écart possible entre le modèle attendu et les résultats réels. La machine TENCOR Archer 200 AIM offre un certain nombre d'avantages qui contribuent à réduire le coût de production des semi-conducteurs. Tout d'abord, l'outil peut inspecter masques et plaquettes en une seule passe, permettant un débit de production plus rapide. Deuxièmement, l'actif offre un examen semi-automatique des défauts, de sorte qu'il n'est pas nécessaire d'inspecter manuellement et d'identifier chaque défaut. En outre, le modèle offre une grande variété de capacités d'imagerie et d'analyse, y compris la capacité de mesurer les profils de motifs et les largeurs de lignes, ainsi que la capacité de détecter les fissures et autres défauts. Enfin, l'équipement peut inspecter des plaquettes jusqu'à 140 plaquettes par heure. En conclusion, Archer 200 AIM masque & wafer inspection system est un outil puissant pour détecter et analyser les défauts dans les processus de lithographie. Cette unité offre des capacités d'imagerie supérieures et une variété de fonctions d'analyse automatisées utiles. En outre, son débit élevé permet une production plus rapide et des coûts réduits, ce qui en fait un choix idéal pour la production de semi-conducteurs de 200mm.