Occasion KLA / TENCOR Archer 300 #293760734 à vendre en France

KLA/TENCOR Archer 300 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour fournir une analyse précise des performances des procédés de lithographie sur les dispositifs semi-conducteurs avancés. Ce système offre des capacités d'imagerie 2D ou 3D complètes, ainsi que des capacités d'imagerie améliorées pour détecter les variations de placement des bords, les caractéristiques de sous-résolution et les interactions critiques matériau-film. KLA Archer 300 est une plate-forme matérielle qui peut intégrer l'imagerie laser haute vitesse, l'inspection optique automatisée, l'inspection des masques et l'inspection des films pour analyser les circuits intégrés. TENCOR Archer 300 utilise la technologie AccuMetrix™ et MultiRes™ qui fournit une technologie de pointe et de vérification qui combine l'imagerie haute résolution avec le logiciel AccuMetric pattern matching pour détecter facilement les défauts dans les modèles complexes. Grâce à sa profondeur de focalisation accrue et à ses techniques d'imagerie brevetées, Archer 300 est en mesure de détecter et d'identifier les défauts plus précisément et plus rapidement que les systèmes de visualisation classiques. Cette machine de pointe a amélioré les capacités de mesure des dimensions critiques et optimisé le contrôle des processus pour un contrôle des rendements supérieur. KLA/TENCOR Archer 300 a la capacité d'images 3D avec des résolutions de pixels jusqu'à 20nm et une résolution de hauteur jusqu'à 10nm, et un débit d'échantillon amélioré avec jusqu'à 178 plaquettes scannées en une seule journée. KLA Archer 300 a également la capacité de supporter jusqu'à 128 wafers simultanément, fournissant un débit de données à grande vitesse. L'Archer de TENCOR 300 est aussi équipé avec la cartographie avancée et les technologies d'inspection de film en incluant la technologie de MultiColor™ pour inspecter plus qu'un trait de métrologie clé en même temps. Il comprend également des outils Absolute Overlay™ qui mesurent la performance de superposition et démontrent la cohérence de la performance de superposition entre plusieurs couches. De plus, l'outil comprend une capacité d'inspection micromasque intégrée qui permet l'analyse automatique des caractéristiques du masque pour éliminer les erreurs ou les défauts. La conception d'actifs avancée d'Archer 300 comprend également un puissant logiciel d'acquisition, d'analyse et de communication de données avec des capacités de rapport, qui donne aux utilisateurs le pouvoir de contrôler, d'analyser et de valider les paramètres du processus. Les capacités complètes d'analyse, de rapport et de messagerie donnent aux utilisateurs la confiance nécessaire pour intervenir de façon proactive afin d'améliorer le rendement des processus. KLA/TENCOR Archer 300 est un modèle avancé, fiable et performant qui optimise la précision, le débit et l'analyse des données pour aider les utilisateurs à atteindre leurs objectifs de contrôle des processus de lithographie. Cette solution d'inspection de masque et de plaquette de meilleure qualité permet aux utilisateurs d'obtenir une stabilité maximale du procédé et un rendement de fabrication de l'appareil.