Occasion KLA / TENCOR Archer AIM+ #293603929 à vendre en France

KLA/TENCOR Archer AIM + est un équipement de masque et d'inspection de plaquettes leader sur le marché qui aide les fabricants de semi-conducteurs à améliorer les rendements des procédés et à réduire les coûts. Il détecte avec précision même les défauts les plus infimes sur une large gamme de types de test de masque et de plaquettes et permet aux ingénieurs de processus de réagir rapidement aux défauts affectant le rendement. Le système combine des algorithmes optiques et d'imagerie innovants avec une reconnaissance de motifs basée sur la physique avancée. La caméra de KLA Archer AIM + est un moniteur à double axe sélectif, qui acquiert avec précision des données à la fois de wafer et de masque. Il est capable de capturer des images jusqu'à 4000 x 4000 pixels avec une résolution et une précision de sous-microns. Pour améliorer encore la capture d'image, l'unité dispose d'une machine intelligente d'optimisation des paramètres qui ajuste l'optique pour des résultats optimaux dans un temps de cycle plus court. TENCOR Archer AIM + utilise une technologie avancée de reconnaissance des motifs qui prend en compte des variables telles que la forme, la taille et l'espacement des défauts. Il utilise également des simulateurs basés sur la physique pour mesurer avec précision les paramètres optiques qui influent sur l'inspection des motifs. Ces paramètres comprennent la résolution, la focalisation et l'éclairage. En outre, l'outil dispose de techniques avancées de filtrage d'images pour améliorer la détection des défauts tels que les filtres gaussiens, les filtres de morphologie et les algorithmes de contour actif. Archer AIM + est optimisé pour les processus de production à haut volume et offre une surveillance intégrée de l'usine. Ces données peuvent être personnalisées et accessibles à distance, fournissant un contrôle de processus supérieur sur une gamme plus large de défauts. En outre, l'actif utilise des algorithmes avancés de reconnaissance des défauts pour fournir des résultats précis tout en tenant compte des défauts qui se déplacent dans le temps. KLA/TENCOR Archer AIM + est déployé sur plus d'une centaine de sites à travers le monde et est idéal pour une large gamme de procédés et de tests de fabrication de masques, y compris, mais sans s'y limiter, les masques EUV, les photomasques optiques, les images de résistance et tous les masques à double effet. Dans l'ensemble, KLA Archer AIM + aide les fabricants de semi-conducteurs à améliorer le rendement et à réduire les coûts en fournissant une détection précise, détaillée et à haut débit des défauts sur un large éventail de besoins d'inspection des masques et des plaquettes.