Occasion KLA / TENCOR Archer AIM+ #293767505 à vendre en France

KLA / TENCOR Archer AIM+
ID: 293767505
Taille de la plaquette: 8"-12"
Overlay inspection system, 8"-12".
KLA/TENCOR Archer AIM + est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes spécialement conçu pour les environnements avancés de production de semi-conducteurs. Il combine diverses méthodes d'inspection, telles que l'imagerie de surface et de section, la microscopie à variation de focalisation et l'imagerie à base de plaquettes, afin d'assurer une détection rapide et précise des défauts. Le système d'inspection fournit en temps réel une rétroaction franche sur les défauts de masque et l'intégrité de conception, améliorant les décisions de processus et réduisant les pertes de rendement. Son optique avancée dispose d'une grande profondeur de champ et plein champ de vue, aidant à identifier même les défauts les plus subtils. L'unité dispose également de capacités de résolution avancées, y compris le contraste de phase Airy et l'imagerie en champ proche. KLA Archer AIM + utilise un logiciel propriétaire pour fournir une gamme de capacités de détection automatique des défauts de masque, y compris l'auto-classification des types de défauts, l'auto-triage des listes de défauts, l'auto-focalisation des images de défaut, l'auto-archivage des images de défaut, l'auto-examen des images, et un éditeur de règles pour le flux de masque personnalisé. Il peut spécifier des optiques de qualité laboratoire et un éclairage configurable sur des zones défectueuses pour une analyse précise. La machine offre également une suite d'outils d'inspection conviviaux, y compris un mode d'inspection multi-sites pour visualiser une plaquette à partir de plusieurs orientations, un mode de balayage de fréquence alternatif, des outils de précision et de régression de superposition avancés, et un facteur de décalage de bord réglable pour l'analyse précise des défauts. TENCOR Archer AIM + est un outil puissant pour la production avancée de semi-conducteurs, permettant une inspection de masque et de plaquette de haute précision en quelques minutes. Ses capacités de détection précises et intelligentes en font un ajout inestimable à toute opération de fabrication de semi-conducteurs.
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