Occasion KLA / TENCOR Archer XT+ #9227344 à vendre en France

KLA/TENCOR Archer XT + est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes conçu pour les procédés avancés de lithographie et de fabrication de filière. Il fournit une analyse automatisée des images brutes provenant de la microscopie électronique (SEM), de la lithographie par faisceau d'électrons (EBL), de la microscopie électronique à balayage (SEM) et de l'écriture directe par faisceau électronique (EDW). Le système permet une inspection rapide et à haute résolution des résidus de particules des plaquettes, des masques et des faisceaux électroniques avec la capacité de détecter les défauts individuels jusqu'au nanomètre. KLA Archer XT + utilise des algorithmes propriétaires pour analyser rapidement des millions de pixels pour la détection et la classification précise des défauts de masque et de plaquette. Cette unité est capable de détecter une grande variété de défauts, y compris des défauts bruts tels que des ouvertures, des raccourcis et des défauts répétés ; défauts de précision de placement du bord ou du motif (Euler) ; une déclaration erronée de couche à couche ; détections d'orientation des grains ; résister à la couverture ; structure des grains ; et rugosité de surface. Il intègre également des mécanismes rigoureux de mesure et de déclaration de la précision allant de < 1µm à 1nm selon le type de défaut. TENCOR Archer XT + est construit avec une suite d'inspection et de métrologie entièrement automatisée. Cela comprend un ensemble d'outils d'imagerie, de filtrage et de segmentation efficaces, intégrés à des analyses intelligentes pour détecter, classer et valider les défauts. Une bibliothèque incluse d'algorithmes de comparaison permet une analyse rapide des données historiques. En outre, la machine utilise une analyse prédictive avancée pour reconnaître et alerter les utilisateurs sur les problèmes potentiels de processus et d'outillage de processus. En plus de l'inspection et de l'analyse automatisées, Archer XT + donne accès à une large gamme d'outils de visualisation. Cela comprend l'alignement multi-images pour l'analyse des défauts composites, l'analyse multivariée pour l'analyse des défauts complexes, et la capacité de détecter et de comparer les caractéristiques aux spécifications. Les capacités Wafer et Mask Strip Analysis permettent une navigation instantanée, multi-images et des routines avancées d'analyse d'image. KLA/TENCOR Archer XT + est une solution de métrologie optimale pour la production de masques, de plaquettes et de matrices. Sa précision avancée des résultats, ses algorithmes puissants, sa détection et classification automatisées des défauts et ses capacités de visualisation en font un outil idéal pour l'optimisation des processus et la gestion avancée des défauts.