Occasion KLA / TENCOR Archer #9152895 à vendre en France

KLA/TENCOR Archer est un équipement automatisé d'inspection des masques et plaquettes conçu pour détecter les défauts au niveau du nanomètre. Il se compose d'une unité de chemin subscan (SPU), d'un système d'imagerie et d'une unité de conception assistée par ordinateur (CAO). L'USP se compose de deux tables motorisées qui se déplacent dans les directions X et Y, permettant le balayage d'un échantillon dans les axes X, Y et θ (inclinaison). Les scanners secondaires et primaires sont les composants utilisés pour acquérir des images des échantillons. Le scanner secondaire dispose d'une caméra CCD qui acquiert une image numérique de l'échantillon, et d'une diode laser qui mesure la hauteur du pas de l'échantillon. Le scanner primaire monté sur le SPU comprend à la fois une caméra CCD et une diode laser, qui est utilisé pour la focalisation et pour l'imagerie haute résolution. La machine CAO est utilisée pour stocker et organiser les données et pour créer un masque ou une mise en page du motif à inspecter. KLA Archer inspecte les défauts au moyen de diverses techniques, y compris l'imagerie en champ lumineux et sombre, l'imagerie par contraste de phase et la soustraction d'images. L'imagerie par champ lumineux utilise une lumière de haute intensité pour détecter la présence de défauts par l'intensité de la lumière réfléchie. L'imagerie en champ sombre utilise la lumière de moindre intensité comme référence et détecte les défauts par la variation de l'intensité de la lumière réfléchie. L'imagerie par contraste de phase permet de détecter l'interface entre les plaquettes d'oxyde et de silicium. La soustraction d'image est utilisée pour soustraire l'image de surface d'une image de référence afin de détecter les changements dans les caractéristiques de surface. L'outil dispose également d'une fonction avancée de traitement d'image qui identifie les anomalies potentielles et détecte les anomalies avec une grande précision. En outre, TENCOR Archer peut être intégré dans le flux de processus existant pour améliorer l'analyse des matériaux existants, le diagnostic des défauts, le contrôle et la gestion du rendement. Grâce à sa technologie à double résolution, l'actif peut détecter et corriger les défauts sur de petites zones, comme les trous de contact. Enfin, le modèle enregistre automatiquement les mesures et peut stocker des données dans des formats standard. Ces données sont utilisées pour analyser les tendances, produire des rapports et améliorer la collecte de données. Dans l'ensemble, Archer est un équipement automatisé, à haute vitesse, masque haute résolution et d'inspection des plaquettes. En fournissant la détection des défauts au niveau du nanomètre, ce système est adapté à la détection des défauts dans une variété d'industries, y compris la fabrication de semi-conducteurs, de panneaux plats et de disques.