Occasion KLA / TENCOR AWUS 3110 #293809499 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR AWUS 3110 masque et wafer inspection (MWI) est un système d'inspection informatique de pointe conçu pour inspecter les photomasques et les wafers pour détecter les défauts. Il combine des technologies optiques et de traitement d'image de pointe pour fournir aux opérateurs une plate-forme complète pour identifier et caractériser les défauts sur les couches de masque et de plaquette de circuit intégré (IC). L'unité est équipée d'un microscope optique à usage général, d'un étage X-Y et d'un processeur de lumière numérique (DLP) de 248 nm. Cela permet à l'utilisateur d'imaginer, d'analyser et de mesurer l'intégrité des surfaces des masques semi-conducteurs et des plaquettes. En optimisant la réponse du DLP aux différents niveaux d'éclairage, KLA AWUS 3110 offre des capacités d'inspection sophistiquées et rapides. TENCOR AWUS 3110 utilise une technique d'éclairage latéral, où la source lumineuse est placée sous l'échantillon plutôt qu'au-dessus. Cette méthode permet une machine beaucoup plus légère et moins puissante, faisant de l'AWUS 3110 un outil idéal pour inspecter de grands échantillons de couches de masque ou de plaquettes. L'outil utilise également un atout optique double face qui permet un balayage rapide des deux côtés d'un échantillon, permettant un délai de traitement plus rapide et des résultats plus précis. Le modèle utilise une plateforme logicielle indépendante qui est conçue pour analyser et traiter les données efficacement. Cette plate-forme peut être configurée pour détecter et définir automatiquement les caractéristiques d'un nombre quelconque de défauts potentiels. En outre, la plate-forme permet à l'utilisateur de personnaliser les détections automatisées et de mettre en place des opérations de test manuel. En conclusion, l'équipement KLA/TENCOR AWUS 3110 d'inspection des masques et plaquettes est un système performant et peu coûteux qui fournit aux clients une plate-forme complète pour évaluer et corriger les défauts des couches de masque et de plaquettes. Il utilise des technologies de traitement optique et d'image modernes et offre aux utilisateurs la souplesse nécessaire pour personnaliser les inspections automatisées pour diverses applications.