Occasion KLA / TENCOR AWUS 3110 #9236712 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR AWUS 3110 Masque et Wafer Inspection est un système d'inspection plein champ fiable et puissant conçu pour améliorer le rendement, augmenter le rapport coût-efficacité et permettre une analyse rapide et précise des défauts pour les applications critiques de contrôle des processus. L'unité utilise des optiques évoluées à haute résolution, des mesures par couche de paramètres optiques et un traitement amélioré du signal pour offrir une grande sensibilité aux inspections et améliorer les capacités d'analyse des données. Cela signifie que les utilisateurs obtiennent des images haute résolution des sites de défauts avec une précision et un contraste accrus pour l'identification immédiate des défauts, ainsi que des images cristallines des couches de dispositifs pour une meilleure reconnaissance des motifs. KLA AWUS 3110 Masque et Wafer Inspection Machine dispose d'une interface utilisateur intuitive permettant une navigation simple tout au long de l'outil, et dispose d'une large gamme d'options pour inspecter différents types de wafers et masques, y compris le champ plein, multi-niveaux, et inspection microscopique. Il dispose d'une fonction de focalisation automatique précise et hautement répétable, permettant des mesures de focalisation rapides avec des profils en temps réel qui peuvent être utilisés pour l'optimisation des processus. Il comprend un algorithme avancé de détection des défauts qui rejette les appels de fausses défectuosités, réduisant les failles d'inspection et les déchets de production. Les fonctions de mesure étendues de l'actif aident à détecter les défauts subtils qui pourraient conduire à un rendement réduit. Un algorithme amélioré d'analyse d'image et un modèle automatisé de classification des défauts permettent une analyse rapide et concluante des données pour la résolution de problèmes et le contrôle des processus. L'équipement dispose d'une couche de superposition brevetée à balayage laser qui est utilisée pour l'inspection des masques et des plaquettes afin d'assurer l'exactitude et la cohérence des données tout au long du processus. En plus de ses performances puissantes et précises, TENCOR AWUS 3110 Mask & Wafer Inspection System est conçu pour une fiabilité maximale avec des débits rapides et une grande stabilité. L'unité aide les utilisateurs à réduire les temps de cycle, à améliorer les rendements et à accélérer la mise sur le marché. Il est capable de manipuler divers types de plaquettes, de matériel étranger et de défauts, et est soutenu par un personnel de soutien technique hautement formé et expérimenté.