Occasion KLA / TENCOR CRS 3100 #9207492 à vendre en France
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ID: 9207492
Style Vintage: 2002
Review station
Power supply: 1 Phase, 24 A, 220 VAC, 60 Hz
Maximum ampere: 10000
Maximum load: 12
2002 vintage.
KLA/TENCOR CRS 3100 Masque et Wafer Inspection Equipment fournit une solution haute performance pour inspecter et analyser les lignes de production à haut débit des wafers semi-conducteurs. Ce système d'inspection automatisé utilise une technologie d'imagerie à haute sensibilité pour identifier les micro-défauts sur les surfaces des plaquettes avec une précision et une clarté extrêmement élevées. De plus, l'unité KLA CRS 3100 permet également un examen et une analyse sophistiqués pour détecter les micro-défauts isolés cachés dans les disques de plaquettes. Au cœur de la machine TENCOR CRS 3100 est un ensemble optique spécialisé qui fournit une imagerie à réflexion totale très sensible du disque de la plaquette, et une caméra CCD qui capture plusieurs images de la surface de la plaquette en mode de capture séquentielle. L'outil CRS 3100 est également flexible sur le type de plaquette qui peut être inspecté, car il peut supporter à la fois des disques de plaquettes en arséniure de gallium et de tranches avec une précision et une précision égales. Ce produit comprend également un atout avancé de positionnement gimbal à 6 axes avec une résolution de 1,5 micron, permettant un alignement très précis de la plaquette sur l'étage optique. Le modèle KLA/TENCOR CRS 3100 est également capable d'inspecter les disques de plaquettes avec détection optique de défaut (OFD) pour identifier les défauts sur la surface supérieure de la plaquette. Ce module OFD utilise des techniques de détection de pointe uniques pour optimiser et améliorer la sensibilité de détection des défauts et détecter les défauts même mineurs. En outre, l'équipement dispose également d'un système d'échantillonnage Auto FE-SEM, qui utilise des techniques de microscopie électronique pour graver électrochimiquement les couches endommagées à la surface d'une plaquette pour une analyse ultérieure des défauts. Enfin, l'unité KLA CRS 3100 est conçue pour maximiser le débit du processus d'inspection des disques de plaquettes. Il est équipé d'une interface utilisateur avancée qui le rend facile à configurer et à saisir les paramètres d'inspection, fournissant des recettes d'inspection complètes et personnalisées. En outre, la machine offre également des temps d'arrêt très faibles, permettant à l'utilisateur d'ajuster rapidement et efficacement les paramètres d'inspection et de l'optimiser pour une précision et une vitesse maximales. Avec ces fonctionnalités innovantes et des spécifications avancées, TENCOR CRS 3100 Mask & Wafer Inspection Tool est positionné comme l'une des meilleures solutions pour l'inspection avancée des plaquettes semi-conductrices.
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