Occasion KLA / TENCOR CV300 #9244817 à vendre en France

KLA/TENCOR CV300 est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes très avancé qui fournit une technologie de contrôle des procédés semi-conducteurs de haute qualité et d'inspection optique de pointe. Le processus d'inspection en plusieurs étapes du système lui permet d'inspecter les plaquettes à un temps de cycle inférieur à une seconde, ce qui lui permet de détecter et de diagnostiquer rapidement les défauts. Sa technologie d'inspection est idéale pour le contrôle des processus CMOS, car elle est capable de détecter et d'évaluer des caractéristiques à plusieurs échelles, du nanomètre au sub-micron et au-delà. L'unité d'inspection optique de KLA CV300 fait partie intégrante de sa suite de contrôle de processus, avec une machine d'imagerie multi-spectrale, une optique à fort grossissement et une classification automatisée des défauts basée sur des algorithmes d'analyse d'image pour une résolution maximale des défauts. L'outil utilise également la technologie avancée d'inspection des particules de l'UCK pour analyser la taille des particules de 100 µm jusqu'à 20 nm. De plus, il comprend des caractéristiques telles que la mesure de superposition, la métrologie au niveau de la matrice et l'analyse des défauts de surface, qui peuvent toutes être utilisées pour améliorer la détection et l'analyse des défauts. TENCOR CV300 dispose également d'une gamme de fonctionnalités avancées, telles qu'un processus d'auto-étalonnage, une interface conviviale, des rapports de mesure complets et des outils de gestion de données efficaces. Il comprend des logiciels pour l'affichage et le contrôle des données de processus, ainsi que des outils pour l'adaptation des dispositifs de défaut critique, l'analyse des données et l'optimisation des processus. Le modèle d'inspection des masques et plaquettes est conçu pour une modularité maximale, permettant une gamme d'options de configuration pour répondre à des besoins de processus spécifiques. Ses fonctionnalités conviviales et sa conception robuste le rendent très fiable, tandis que ses mécanismes optiques de haute précision et de détection des particules permettent une inspection supérieure des plaquettes et des matrices jusqu'à l'échelle des sous-microns. Dans le résumé, le masque de CV300 & l'équipement d'inspection de gaufrette est tout en un la solution pour la commande du processus et l'inspection. Grâce à ses capacités avancées d'optique, de détection de particules et d'inspection à plusieurs échelles, il est conçu pour simplifier le contrôle des processus et réduire les étapes de processus tout en maintenant les normes de qualité les plus élevées en matière de précision et de vitesse.