Occasion KLA / TENCOR eDR-5210 #293755074 à vendre en France

KLA/TENCOR eDR-5210 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour l'analyse de haute précision des photomasques, mesurant des caractéristiques aussi petites que 0,08 microns. Le système est capable d'inspecter simultanément les réticules et les plaquettes, et il utilise des techniques optiques avancées, telles que la scatterométrie et la microscopie optique, pour détecter et identifier les particules - même celles de taille inférieure à un micron. L'unité à base de fibres optiques est capable de générer des images extrêmement détaillées de masques, même avec de petits agrandissements. En outre, il peut générer des mesures de scatterométrie haute résolution de motifs critiques, tels que tranchées, vias, et espacements. La machine est également capable d'effectuer des inspections de défauts sur les plaquettes traitées, aidant l'utilisateur à identifier et quantifier les défauts de surface et en profondeur. KLA eDR-5210 est également capable d'analyser différents types de matériaux, allant du quartz au silicium, et peut effectuer avec précision la détection des défauts du réticule 4x pour les masques de grande taille et de fine taille. L'outil comprend des logiciels avancés qui peuvent inspecter et mesurer rapidement et efficacement de grands ensembles de données, ainsi que faciliter l'analyse automatique des défauts. L'actif se vante de plusieurs traits clés, en incluant un miroir de scanner à grande vitesse, une commande du processus de précision, un spectrographe le modèle optique et un équipement à laser fiable de 10 kHz. Ensemble, ces composants permettent à la machine de produire des images précises, de mesurer les défauts avec une plus grande résolution que les méthodes classiques, et d'identifier et diagnostiquer rapidement les erreurs potentielles. Dans l'ensemble, TENCOR EDR 5210 est un puissant système d'inspection de masque et de plaquettes haute performance qui est bien adapté à une variété d'applications de production de semi-conducteurs. En combinant des techniques optiques avancées avec des logiciels robustes, la machine peut détecter et signaler avec précision les plus petits défauts, ce qui en fait un outil essentiel pour une fabrication efficace et sans erreur.