Occasion KLA / TENCOR eDR-5210 #9278887 à vendre en France
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ID: 9278887
Taille de la plaquette: 12"
Defect review SEM, 12"
SMC Thermo Chiller
Power supply CONE RC
Handler:
(2) Load ports / Fix load
BROOKS Robot and aligner and controller
Aligner:
OXFORD 51-1100-109 Dry cool monitory
OXFORD 51-1100-108 Dry cool control
INCA 51-1100-103 X-Strear
Main body:
OXFORD INCA DOL7967 Dry cool
EDWARD Turbo Molecular Pump (TMP)
VARIAN Ion pump
Control rack:
VARIAN Ion pump controller
EDWARDS STP-301-U DOC TMP Controller
TMC DC-2000 Precision valve controller
(2) Reset power supplies
High voltage power supply
Motion controller
Main PC
Does not included Hard Disk Drive (HDD)
Power distribution.
KLA/TENCOR eDR-5210 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes utilisé dans la production de semi-conducteurs. Il est conçu pour détecter et analyser les défauts des plaquettes, ainsi que d'autres défauts de précision au niveau du masque. Le système est capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 200mm de diamètre et une grande variété de types de masques. Les principaux composants de l'unité comprennent une machine d'inspection optique, une étape de cartographie des plaquettes, un algorithme de reconnaissance d'image numérique et une console de métrologie intégrée. L'outil d'inspection optique est un outil d'imagerie hyperspectrale haute résolution qui capture des images de la surface de la plaquette. L'étape de cartographie de la plaquette est un modèle de positionnement multi-axes qui permet une mesure précise de la surface de la plaquette. L'algorithme de reconnaissance d'image est utilisé pour identifier et catégoriser les défauts éventuels. Enfin, la console de métrologie intégrée fournit un examen final des données pour s'assurer de leur exactitude. KLA eDR-5210 est équipé d'une variété de fonctionnalités avancées pour améliorer la productivité. En outre, l'équipement est conçu pour une installation et un entretien faciles, ce qui en fait une excellente option pour les lignes de production de semi-conducteurs. TENCOR EDR 5210 offre un large éventail d'applications, allant de l'inspection des masques et de l'analyse des défauts, à l'inspection et à la révision des pochoirs de lithographie. Ses capacités de capture d'image de haute qualité et fiables en font un excellent choix pour l'inspection des masques et des plaquettes. Le système est efficace et donne des résultats précis. L'algorithme de reconnaissance d'image et la console de métrologie garantissent également la précision. KLA EDR 5210 est un excellent choix pour l'inspection et l'analyse de masques et de plaquettes dans la production de semi-conducteurs. Avec une capture d'image très précise et une gamme de fonctionnalités avancées, il est l'un des systèmes les plus fiables sur le marché aujourd'hui et est fortement recommandé pour une productivité optimale.
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