Occasion KLA / TENCOR eDR-5210 #9397336 à vendre en France

KLA/TENCOR eDR-5210 masque et wafer inspection equipment est une plate-forme de métrologie avancée conçue pour fournir une détection de défauts haute résolution et une analyse approfondie des motifs avancés de photomasques et de wafer. Il s'agit d'un système multimode capable de fonctionner à la fois dans des éclairages de champ lumineux et de champ sombre, permettant l'imagerie avec un fort contraste et utilisant des modes standard de champ noir commercial, champ d'anneaux et polarisation linéaire. Les fonctions algorithmiques dédiées facilitent encore la détection et l'analyse sans faille des motifs de photomasque, réticule et wafer. L'unité dispose d'une taille de champ maximale de 50 cm avec une résolution d'imagerie de 0,05 µm et une taille d'étape d'inspection de 1 µm, ce qui en fait l'un des systèmes de résolution les plus élevés sur le marché. Il est équipé de capacités d'auto-focalisation active, d'une machine auto-étape, de systèmes d'éclairage avancés et de capacités de récupération et de manipulation de masque automatique. En outre, l'outil dispose d'un détecteur d'imagerie CMOS avancé, assurant un fonctionnement plus rapide et une meilleure performance du bruit de tir. KLA eDR-5210 comprend également de puissants algorithmes avancés basés sur l'IA qui aident à analyser les images afin de détecter différents types de défauts. En outre, l'actif offre également un large éventail d'outils d'analyse et de rapport avancés qui permettent aux utilisateurs de visualiser et de documenter rapidement et facilement les données défectueuses. Dans l'ensemble, le modèle d'inspection des masques et plaquettes TENCOR EDR 5210 offre une solution complète pour l'inspection des motifs des photomasques et des plaquettes. Sa combinaison d'algorithmes puissants et de résolution d'imagerie avancée garantit un équipement robuste et fiable pour la détection et l'analyse des défauts.