Occasion KLA / TENCOR eDR-5210S #293748678 à vendre en France

L'équipement KLA/TENCOR eDR-5210S masque et wafer inspection est une solution automatisée qui fournit haute vitesse, haute définition, métrologie basée sur l'image et inspection des défauts des masques et wafers semi-conducteurs. Il utilise une optique d'imagerie avancée, des algorithmes propriétaires de vision de machine, et une plate-forme logicielle intégrée pour fournir la plus grande précision et précision disponible dans l'industrie. KLA eDR-5210S fournit des capacités de métrologie avancées pour une variété de masques semi-conducteurs et de plaquettes à partir d'une seule plate-forme. L'optique d'imagerie innovante du système utilise une variété de longueurs d'onde pour les caractéristiques d'image des couches de surface et de sous-surface du masque ou de la plaquette. La technologie d'inspection basée sur l'image permet une détermination rapide et précise des placements et des dimensions des fonctionnalités, fournissant les meilleurs résultats de qualité disponibles sur le marché. En outre, les algorithmes avancés d'acquisition d'images de l'unité assurent un éclairage approprié pour l'imagerie précise. La plateforme logicielle complète de TENCOR eDR-5210S intègre des algorithmes puissants et automatisés d'analyse et de classification des données. Cela permet une simplification automatisée et l'application des données entre les projets, ce qui permet d'économiser du temps et de l'argent. La machine fournit également des capacités efficaces d'alignement de masque basé sur la tâche, défaut de motif, et inspection de masque de superposition, ainsi que la capacité d'effectuer des mesures et des manipulations en temps réel de grands ensembles de données. EDR-5210S offre une précision et une fiabilité améliorées, une imagerie supérieure et une plateforme logicielle complète pour permettre aux utilisateurs de réduire les défauts de qualité et d'améliorer leur rendement. L'outil a été mis en œuvre avec succès dans de nombreux environnements de production, avec d'excellents résultats et des rendements considérablement augmentés. Avec sa technologie d'imagerie avancée, ses algorithmes d'analyse et de classification des données et ses capacités d'alignement des masques, KLA/TENCOR eDR-5210S est la solution idéale pour tous les besoins d'inspection de masque et de plaquettes de haute précision et haute performance.