Occasion KLA / TENCOR EFEM #9276751 à vendre en France

KLA/TENCOR EFEM (Edge and Film Emission Metrology Equipment) est une solution avancée d'inspection des masques et des plaquettes conçue pour détecter avec précision les défauts dans les processus semi-conducteurs. Le système utilise des techniques avancées d'imagerie haute résolution pour créer des profils de la surface gravée du dispositif et pour mesurer la composition de la pile de film obtenue. Cela fournit des mesures granulaires de haute précision des variations internes des caractéristiques des photomasques transférés et du matériau photosensible et des caractéristiques présentes sur une plaquette. KLA unité EFEM combine l'efficacité d'une machine automatisée avec la précision d'un opérateur humain. Il est conçu pour détecter des micro-défauts aussi petits que 20nm, avec un taux de détection typiquement de 98 %. L'outil est disponible dans des configurations différentielles et non différentielles. La configuration différentielle permet aux opérateurs d'identifier rapidement les variations internes, et la configuration non différentielle permet une caractérisation plus précise des caractéristiques à grande échelle sur toute la surface de la plaquette. L'actif est composé de matériel, de logiciels et d'accessoires qui fournissent un contrôle complet des processus. Il comprend la réflectométrie par émission de bord global (GEM) et la réflectométrie par émission de film (FEM), qui utilisent toutes deux une imagerie et une analyse avancées. Le modèle inclut également l'imagerie basse kV ; interface modulée (PI) ; imagerie multi-spectrale (MSI) ; métrologie bord/film (EDFEM) ; métrologie des conducteurs à motifs (PCM) ; et contrôle paramétrique (PA) ; toutes offrent des solutions complètes pour mesurer avec précision les caractéristiques physiques des substrats. En plus de l'inspection visuelle, l'équipement TENCOR EFEM peut également fournir une large gamme de fonctions de contrôle de processus. Il comprend un ensemble de capteurs embarqués qui prennent en charge les configurations de contrôle de processus, permettant d'identifier avec une grande précision les non-uniformités dans l'uniformité de processus (PU) ainsi que d'autres variations de processus. Le système fournit également des capacités complètes d'appariement de motifs, qui permettent aux utilisateurs d'identifier et d'exploiter les non-uniformités en ajustant les paramètres d'appariement de motifs. L'EFEM est conçu pour l'évolutivité et peut être adapté aux besoins des fabricants indépendamment de leur taille et de leur complexité. Sa conception polyvalente permet un haut degré de personnalisation et fournit un contrôle complet des processus, ce qui réduit considérablement les coûts associés à la fabrication des masques. Avec ses capacités d'imagerie avancées et ses fonctions de contrôle des processus, l'unité est un partenaire essentiel pour tout fabricant de semi-conducteurs.