Occasion KLA / TENCOR es20 #9198565 à vendre en France

KLA/TENCOR es20 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système fournit haute résolution, haute vitesse, et l'inspection automatisée des photomasques et des plaquettes avec précision et répétabilité. Le modèle KLA es20 est une mise à niveau de l'unité populaire KLA es10 et est conçu pour répondre aux besoins les plus exigeants de l'industrie en matière d'inspection des masques et des plaquettes. La machine dispose d'une colonne de projection optique à champ de vision fixe capable de recevoir des plaquettes de 100 mm, 200 mm et 300 mm de diamètre. L'outil est également équipé d'une caméra CCD haute performance qui capture des images de la plaquette avec une résolution de 12,3 mégapixels par image. La plaquette est éclairée par un réseau de LED rouges afin de recueillir la lumière réfléchie par le masque ou la plaquette inspecté. L'actif comprend également un certain nombre d'outils tels qu'un mode de défaut programmable, un modèle d'alignement automatique et un équipement de détection de focalisation. Le système d'inspection utilise une gamme d'algorithmes logiciels afin d'identifier et de classer les défauts sur le masque ou la plaquette. Cela inclut l'utilisation de la spectroscopie pour la détection de particules et de cristaux à la surface du masque ou de la plaquette. L'unité est également capable de distinguer les défauts de ligne simple et multiple, ainsi que de détecter les défauts sous la surface. Le modèle TENCOR es20 est conçu pour la détection rapide et fiable des défauts, y compris les défauts au niveau des plaquettes et des dispositifs tels que les rayures et les fosses, ainsi que les caractéristiques d'impact sur le rendement telles que les trous de pincement, les vides et les particules. En outre, la machine est équipée d'une variété de filtres et d'outils qui permettent aux utilisateurs d'analyser et de traiter les données acquises de diverses façons. Cela comprend l'utilisation du traitement d'image pour améliorer l'image et identifier les défauts, et la capacité de générer des images 3D pour représenter un masque ou une plaquette sans défaut. Dans l'ensemble, es20 masque et wafer outil d'inspection est une solution innovante et avancée pour les besoins critiques masque et wafer inspection. L'atout combine technologie avancée de capture d'image, algorithmes logiciels, et divers outils qui le rendent idéal pour identifier et évaluer les défauts d'une manière rapide et fiable. Avec sa haute résolution et précision, sa technologie d'inspection automatisée et ses capacités de détection rapide des défauts, le modèle KLA/TENCOR es20 est un choix idéal pour les fabricants de semi-conducteurs qui souhaitent porter leur inspection de masque et de plaquettes au plus haut niveau.