Occasion KLA / TENCOR es20xp #9137120 à vendre en France
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ID: 9137120
Inspection scanning electron microscope (SEM),
KLA-Tencor 730-611879-001, Rev. AA
KLA-Tencor 750-611512-001, Rev. AA
KLA-Tencor 450-606043-00
Kensington A00-1464
Kensington A00-1465
(2) Warner Electric Motor M061-LSOSE
MDC ABLM-133-1 S/L.
KLA/TENCOR es20xp est un équipement avancé d'inspection de masque et de plaquettes conçu pour détecter les défauts et les problèmes de contrôle de processus dans la production de semi-conducteurs. Le système utilise du matériel haut de gamme, haute résolution et des algorithmes logiciels avancés pour inspecter les masques et les plaquettes de semi-conducteur à grande vitesse et précision. Ses composants comprennent une unité d'inspection matérielle, une machine d'inspection assistée par ordinateur (CAI) et une interface opérateur. L'outil matériel fournit deux fonctions principales : l'imagerie et l'inspection des défauts. La première étape de l'actif est l'imagerie, qui capture une image haute résolution de la plaquette ou du masque. Cette image est ensuite utilisée pour créer un modèle de caractéristiques qui sont identifiées et comparées à l'ensemble de fonctionnalités souhaité. Si des défauts sont constatés, le modèle reproduit le défaut sur une image pour une analyse plus approfondie. La deuxième étape de l'équipement est l'inspection des défauts. Le processus d'inspection comprend généralement deux étapes supplémentaires. D'abord, le système effectue un balayage de surface, puis recherche des anomalies dans le motif de la plaquette ou du masque. Une fois les écarts identifiés, l'unité les identifie comme des défauts et en évalue davantage la gravité. L'IAC permet de stocker les programmes d'inspection, d'automatiser les tâches récurrentes et d'analyser les données. Cette machine est conçue pour réduire le temps nécessaire pour effectuer une inspection et pour augmenter la précision et la spécificité. Ses composantes comprennent des algorithmes de recherche/correspondance de motifs, des logiciels de contrôle des processus statistiques et des outils d'intégration de bases de données. Enfin, l'interface opérateur est conçue pour une maniabilité facile et une utilisation améliorée. Cette interface permet à l'utilisateur de programmer rapidement l'outil, de revoir les images et de vérifier les résultats de l'inspection. Il permet également d'optimiser l'actif pour une application ou un objectif d'inspection particulier. En conclusion, le modèle KLA ES20 XP est un masque sophistiqué et efficace et un équipement d'inspection de plaquettes avec plusieurs composants. Avec son matériel haute résolution, ses algorithmes logiciels avancés et son interface conviviale, le système est capable de détecter avec précision et rapidité les défauts et de contrôler les processus de fabrication des semi-conducteurs.
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