Occasion KLA / TENCOR eS31 #293619038 à vendre en France

KLA / TENCOR eS31
ID: 293619038
E-Beam inspection system.
KLA/TENCOR eS31 est un équipement automatisé d'inspection des masques et plaquettes conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système utilise des technologies d'inspection 2D et 3D avancées pour détecter avec précision les défauts des produits semi-conducteurs avancés. L'unité utilise la couture automatisée pour créer une carte exacte de la surface de la matrice, et utilise des algorithmes avancés pour détecter les défauts avec une grande précision et fiabilité. La machine a un taux d'inspection à haut débit, avec la possibilité d'inspecter jusqu'à 1500 wafers par heure. L'outil KLA eS31 est composé de divers composants, y compris l'optique avancée, les systèmes de contrôle de mouvement et les algorithmes de traitement d'image. L'optique de l'actif comprend un objectif motorisé, un éclairage télécentrique, des filtres optiques et une source lumineuse polarisée. L'optique est utilisée pour produire des images de meilleure qualité et précision qu'avec l'optique classique. Le modèle de commande de mouvement comprend un étage de mouvement hexapode qui peut se déplacer dans six axes différents, permettant à l'équipement de scanner avec précision la surface de la matrice. Les algorithmes de traitement d'image utilisés par le système utilisent des techniques avancées de machine learning pour détecter et classer les défauts sur la surface de la matrice. Les algorithmes sont capables de détecter une variété de défauts, y compris des vides, des particules, des fractures et des erreurs de topographie. L'unité est également capable de détecter la position et la taille des défauts pour une classification des défauts la plus précise. En outre, la machine est en mesure de produire des images avec des annotations de classification pour une analyse et un examen plus poussés. TENCOR eS31 est un outil avancé et fiable pour effectuer une inspection précise et fiable des masques et plaquettes. Il utilise une optique avancée, des systèmes de contrôle de mouvement et des algorithmes de traitement d'image pour détecter une variété de défauts sur les surfaces de la matrice avec une grande précision et fiabilité. L'actif a un débit élevé et est adapté à une variété d'applications de semi-conducteurs.
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