Occasion KLA / TENCOR eS31 #9203779 à vendre en France

KLA/TENCOR eS31 est un équipement d'inspection de masque et de wafer haute performance conçu pour améliorer les rendements de production. Il assure la production de circuits intégrés et de dispositifs optoélectroniques de meilleure qualité pour l'industrie des semi-conducteurs. Il offre une capacité d'imagerie et de mesure très précise et fiable, permettant un contrôle rapide de la qualité et la mesure des paramètres critiques de production. KLA eS31 intègre la technologie KLA CCD (Charge Coupled Device) avec des algorithmes avancés de traitement d'image dans un système unique qui est exceptionnellement précis. L'unité effectue diverses tâches d'inspection, y compris la mesure des plaquettes et des réticules (masques). Il intègre une machine d'éclairage personnalisée, des algorithmes d'imagerie complexes et des techniques spéciales d'acquisition de données pour mesurer des caractéristiques et des variations extrêmement petites. La fonction auto-focus unique de TENCOR eS31 présente un avantage par rapport aux systèmes d'inspection optique automatisés traditionnels en offrant une gamme améliorée de foyers. Il permet également l'acquisition automatique et optimale de données de diverses caractéristiques de surface telles que la taille des particules, le type de particules, la topographie et les caractéristiques d'assemblage. ES31 offre une grande variété d'options de numérisation et de tâches, permettant de concevoir et de configurer l'outil en fonction des besoins des clients. L'actif peut être configuré avec une variété d'accessoires pour répondre à une variété de besoins, y compris des systèmes d'essais électriques automatisés, des systèmes de sondes et d'alignement optiques automatisés et des systèmes optiques autonomes. KLA/TENCOR eS31 offre une large gamme d'outils en constante évolution. De plus, le modèle s'intègre parfaitement aux systèmes de production existants du client, minimisant ainsi les besoins matériels supplémentaires. Cela permet d'assurer une meilleure évolutivité et une plus grande flexibilité de production. Le logiciel flexible de l'équipement permet la collecte de données multiples. Le logiciel peut être adapté aux besoins du client, permettant l'inspection et l'analyse de divers défauts, y compris les caractéristiques des réticules, masques et plaquettes. Le logiciel peut également être utilisé pour générer des rapports qui fournissent une analyse détaillée de la qualité et de la performance des composants du système. En conclusion, l'UCK eS31 est un groupe d'inspection des masques et des wafers de haute performance conçu pour améliorer les rendements de production. Il est incroyablement précis, dispose d'un auto-focus avec une gamme améliorée de focus, et dispose d'un logiciel flexible avec plusieurs sélections de datapoint et options de reporting. Il s'intègre en outre de manière transparente aux systèmes de production existants, garantissant une meilleure évolutivité et une plus grande flexibilité de production.