Occasion KLA / TENCOR eS32 #9139567 à vendre en France

KLA/TENCOR eS32 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de précision lorsqu'il s'agit d'analyser des diélectriques, des couches minces et d'autres structures à l'échelle du nanomètre. Le système utilise des technologies de pointe d'optique et d'imagerie pour détecter et analyser les défauts avec des résolutions aussi petites que 0.1um. Cette image haute résolution permet aux utilisateurs d'identifier de petites particules, particules et autres contaminants susceptibles de provoquer un dysfonctionnement du dispositif. L'unité est équipée de 2 lentilles, chacune avec une ouverture numérique différente, qui lui permettent de capturer à la fois la vue de dessus et les vues en coupe de la plaquette. De plus, KLA eS32 comprend l'imagerie proche infrarouge (NIR) et la technologie de filtrage en longueur d'onde pour aider à identifier et isoler les défauts qui peuvent être invisibles à la microscopie optique classique. En plus de ses puissantes capacités d'imagerie, TENCOR ES 32 fournit également aux utilisateurs une série de fonctionnalités logicielles telles que l'analyse automatique des défauts, la reconnaissance des motifs et l'étiquetage des données codées par couleur, etc., afin de faciliter les processus d'inspection. La machine est également compatible avec une large gamme de normes industrielles soutenues, y compris SEMI E10 et MIL-STD-1275. ES 32 est conçu pour résister aux environnements les plus rigoureux. Il est construit avec un boîtier en alliage d'aluminium léger et robuste qui est conçu pour résister aux chocs et aux variations de température. L'outil comporte également un délai de mouvement défini par l'utilisateur, afin de s'assurer que l'actif reste au même endroit pendant une longue période d'observation ou d'analyse. En conclusion, eS32 est l'un des outils de microscopie et des systèmes d'imagerie les plus puissants et les plus fiables disponibles sur le marché. L'imagerie haute résolution et les puissantes fonctionnalités logicielles en font l'outil parfait pour identifier les particules à l'échelle nanométrique, les défauts et autres problèmes liés au traitement ou à la performance opérationnelle.