Occasion KLA / TENCOR eS32 #9308154 à vendre en France

KLA/TENCOR eS32 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système dispose de haut débit, 6 Sigma rendement, répétabilité et fiabilité. Il fournit une inspection optique automatisée des photomasques et des plaquettes, avec haute résolution et grand champ de vision. Il aide à améliorer le contrôle des processus tout en maintenant un niveau élevé de précision. L'unité KLA eS32 contient une grande variété de technologies et de logiciels d'inspection, y compris l'optique avancée, l'imagerie par réflexion, la spectroscopie, la diffraction, l'imagerie par rayons X et la métrologie. La machine est capable d'inspecter des motifs dans la gamme de 0,2-500 μ m, avec une résolution minimale de 0,1 μ m, permettant l'imagerie haute résolution de petites et complexes structures. L'outil est également équipé de mécanique de mouvement ultra-précise, ce qui lui permet d'image rapide et précise sur une grande variété de masques et de plaquettes. L'actif dispose également de logiciels spécialisés pour la reconnaissance de motifs photomasque et wafer. Ce logiciel est conçu pour détecter les défauts tels que les particules manquantes, les dépôts incorrects et les impressions imparfaites. Le modèle est capable de distinguer automatiquement les motifs des différentes couches de masque, permettant de détecter des caractéristiques minces avec un haut degré de précision. En outre, l'équipement TENCOR ES 32 est capable de visualiser les défauts en 3D, permettant une inspection et un diagnostic détaillés des photomasques et des plaquettes. Ce système est également équipé d'un certain nombre d'autres fonctions avancées, telles que la détection automatique des points focaux, la détection des atomes à faible contraste, la surveillance de la dérive du pas et l'inspection de la pile d'autofocus. L'unité ES 32 est conçue pour répondre à des exigences de haute qualité et fournit des résultats fiables. Il est idéal pour la fabrication avancée de semi-conducteurs, où des rendements élevés et des coûts faibles sont nécessaires. La machine est également conçue pour être facile à utiliser, avec une interface utilisateur graphique, un support à distance basé sur le web et une suite d'outils de programmation et d'analyse avancés. Au total, KLA ES 32 Masque et Wafer Inspection Tool est la combinaison parfaite de technologies d'inspection avancées et d'interface conviviale, fournissant une solution idéale pour la fabrication avancée de semi-conducteurs.