Occasion KLA / TENCOR eS32 #9386158 à vendre en France

Le masque KLA/TENCOR eS32 et l'équipement d'inspection des plaquettes sont conçus pour des mesures spécifiques des motifs de masque et de plaquettes semi-conducteurs. Il est alimenté par une architecture ouverte qui permet l'intégration de solutions technologiques avancées et d'interfaces robotisées FOUP pour des capacités d'inspection et de mesure avancées. Ce système fournit une interface utilisateur interactive qui permet des inspections rapides et faciles des motifs de plaquettes. L'unité KLA eS32 utilise un logiciel die-to-database qui permet aux utilisateurs d'identifier rapidement et avec précision les défauts. Cet outil dispose de plusieurs étages de plaquette pour la mesure et le réglage de précision de placement automatique. L'atout die-to-database permet un identifiant unique pour chaque die, et la capacité de mesurer avec précision les différences d'exactitude die-to-die. Le modèle d'inspection des masques et plaquettes TENCOR ES 32 dispose de plusieurs technologies avancées pour permettre des mesures précises et répétables. Ces technologies comprennent la reconnaissance de motifs à haute résolution à deux côtés (DSPR), le réglage de l'échantillon sur l'échantillon MyCentreMC et l'alignement sur l'échantillon. La technologie DSPR effectue un processus de reconnaissance de forme extrêmement précis pour identifier les défauts des deux côtés du masque ou de la plaquette sans changer la position de mise au point. Ceci augmente la capacité de détecter de petits défauts tels que des dislocations et des erreurs de couture. Le Réglage sur Échantillon est une technologie qui permet à l'équipement de régler automatiquement la position de mise au point en fonction de la forme réelle de la filière sur la plaquette, ce qui permet une inspection plus précise. La technologie d'alignement sur échantillon de ES 32 permet de cartographier avec précision toute la surface de l'échantillon pour éviter les erreurs dues au déplacement. La technologie avancée permet également de cartographier les surfaces supérieure et inférieure de la filière pour une détection plus précise des défauts. Le système KLA ES 32 est également doté du dernier logiciel de détection des défauts, qui permet de détecter des défauts de taille aussi petite que 0,08 micron. L'unité peut également détecter plusieurs types de défauts, y compris les particules, hillock, délamination, et shorts. En conclusion, le masque TENCOR eS32 et la machine d'inspection des plaquettes fournissent aux utilisateurs une interface utilisateur interactive, un logiciel de base de données avancée, une reconnaissance avancée des motifs, un ajustement de l'échantillon sur le modèle MyCentreMC, un alignement de l'échantillon et un logiciel de détection des défauts de l'échantillon. Cet outil est conçu pour fournir une précision de pointage dans l'identification des défauts, permettant un rendement plus élevé et une fabrication plus rentable des dispositifs semi-conducteurs.