Occasion KLA / TENCOR EV300 #9267083 à vendre en France
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KLA/TENCOR EV300 est un équipement entièrement automatisé de masque et d'inspection de plaquettes haute définition conçu pour des applications critiques en optique et en métrologie. KLA EV 300 utilise la technologie avancée d'interférométrie à balayage laser (LSI) pour fournir une détection supérieure des défauts et une évaluation rapide du rendement sur une large gamme de plates-formes technologiques de masque et de wafer. Le débit élevé du système et l'amélioration de la productivité permettent un retournement plus rapide, réduisant le coût de possession. TENCOR EV-300 comprend une unité de vision exclusive qui permet l'imagerie à haut débit en temps réel avec déphasage et imagerie d'intensité pour les applications d'inspection de masques et de plaquettes. Cette machine permet d'inspecter les masques de grand format, y compris les masques organiques et inorganiques, ainsi que les substrats standard à écran plat, tous à une résolution supérieure à 0,2 µm. L'aptitude de l'outil à des fonctions de déphasage pour l'inspection des masques et des substrats jusqu'à 0,1nm permet de détecter des défauts critiques, qui resteraient sinon impossibles à détecter à l'aide des technologies classiques d'inspection des masques. KLA EV300 comprend également un scanner laser conçu pour un débit optimal et une flexibilité avec imagerie simultanée et détection précise des défauts. Ceci est obtenu grâce à une technologie d'actionnement de direction de faisceau en attente de brevet qui permet une optimisation améliorée du taux de balayage et une facilité d'étalonnage. Le moteur de balayage laser est conçu pour détecter les micro-défauts sur les masques et les substrats, tandis qu'un interféromètre de front d'onde dédié fournit une fonctionnalité de déphasage pour des inspections plus précises. KLA/TENCOR EV-300 comprend également une suite intégrée d'outils logiciels pour améliorer le contrôle des processus et améliorer la productivité. Le logiciel comprend une interface utilisateur graphique intuitive (UI) qui simplifie la tâche d'inspection et d'analyse de masques complexes multicouches. De plus, la possibilité de personnaliser l'interface utilisateur permet une expérience utilisateur unique et un flux de travail automatisé. En outre, le logiciel comprend également des fonctions de caractérisation et d'analyse des processus, telles que l'analyse des données, l'identification des défauts, la caractérisation et l'optimisation des tests. Dans l'ensemble, KLA/TENCOR EV 300 est un masque avancé entièrement automatisé et un outil d'inspection des plaquettes, conçu pour des applications critiques d'optique et de métrologie. Sa combinaison de capacités d'imagerie à haut débit, de balayage laser et d'interférométrie sur front d'onde contribue à faciliter la détection des défauts et l'évaluation du rendement, réduisant ainsi le coût de propriété et améliorant le contrôle des processus. Avec la capacité d'inspecter les masques organiques et inorganiques, les substrats standard à écran plat et les micro-défauts, EV-300 maximise l'efficacité pour un large éventail d'applications.
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