Occasion KLA / TENCOR FLX 5200H #9148307 à vendre en France

KLA/TENCOR FLX 5200H est un équipement automatisé d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour les mesures de dimensions critiques de sous-nanomètres à haut débit (CD). Le système utilise des capacités avancées d'imagerie optique et de métrologie pour fournir des niveaux de fonctions de moins de 50nm avec une résolution et une précision inégalées. L'unité est capable d'un large éventail de tâches d'inspection de motifs et de processus, des petites caractéristiques de masque aux grandes structures de photolithographie. Le KLA FLX 5200H est doté d'un galvanomètre à deux axes doté d'une optique à grande ouverture et d'un mandrin pouvant mesurer jusqu'à 200 mm de wafers. Les optiques de la machine sont disposées dans un banc optique, permettant jusqu'à 6 pistes d'inspection indépendantes pour différentes tâches de mesure. L'optique est composée d'un Laser FabSuite de lentilles, de filtres et de détecteurs pour optimiser la précision spectrale et permettre une haute résolution. Un étage de wafer pleine taille permet des résultats de mesure stables avec un alignement précis. TENCOR FLX 5200H est conçu pour répondre aux exigences complexes de l'industrie des semi-conducteurs en matière d'inspection et d'inspection des procédés. L'outil offre une profondeur de focalisation supérieure, permettant une capture d'image aCIS rapide, et la meilleure métrologie possible utilise 100x grossissement pour les capacités de mesure de CD les plus précises. En outre, l'actif peut effectuer un large éventail d'inspections de masques qui peuvent aider à identifier les défauts et assurer les résultats les plus précis. FLX 5200H utilise des algorithmes avancés de traitement et d'analyse d'images en conjonction avec un modèle informatique sophistiqué. Le traitement et le codage intégrés des recettes permettent un prototypage rapide avec la gestion des données la plus efficace possible. L'équipement fonctionne sur des logiciels spécialisés écrits pour l'inspection à grande vitesse et à grand volume. KLA/TENCOR FLX 5200H est un système d'inspection avancé, haute spécification, masque et wafer conçu pour fournir les mesures d'inspection et de métrologie les plus précises et précises possibles dans un environnement automatisé. L'optique laser de l'unité, le mouvement à deux axes et l'étage de wafer haute résolution garantissent la qualité des résultats de mesure, tandis que son logiciel flexible et son intégration facile dans les processus de wafer fab permettent la normalisation et l'optimisation pour diverses applications.