Occasion KLA / TENCOR / ICOS CI-T120 #9149645 à vendre en France

KLA/TENCOR/ICOS CI-T120 Mask & Wafer Inspection Equipment est un système avancé d'imagerie et d'inspection des semi-conducteurs. Il a été conçu pour repérer les défauts des sous-microns sur une large gamme de surfaces de masque et de plaquettes. KLA CI T120 est une unité de contrôle optique et est l'un des systèmes les plus avancés de son type. Il dispose d'un microscope optique à champ lumineux conçu pour inspecter et détecter avec précision les particules et autres défauts dans les zones de motifs sur un masque ou une plaquette. Il utilise des algorithmes avancés de traitement d'image pour afficher les défauts avec une grande précision et diverses techniques de mesure pour aider à assurer le contrôle de la qualité. La machine ICOS CI T 120 utilise un capteur d'image avancé à haute résolution et une optique optimisée qui permet un grossissement extrêmement élevé, offrant une capacité d'imagerie 3D à des résolutions aussi petites que 0,5 microns. Cette résolution d'image et cet agrandissement ont été prouvés pour aider à détecter et caractériser les particules et autres défauts sur les motifs à la fois dans les écrans plats et les circuits intégrés. TENCOR CI-T120 est accompagné de solutions logicielles : CORE 3 Finder, qui permet la détection et l'analyse en temps réel des défauts ; KXDI pour la classification des défauts ; et Check-It InSight logiciel pour évaluer et minimiser le bruit dans l'image. Il utilise également la reconnaissance d'image de Teratech pour l'analyse des défauts. En termes de performance, TENCOR CI T120 est l'un des meilleurs du marché. Il a une vitesse d'inspection rapide, une excellente couverture de défaut et un débit élevé. C'est un outil adapté à la recherche et à la production, car il peut détecter de très petites particules et d'autres défauts sur une plaquette ou un masque. Globalement, KLA CI T 120 Mask & Wafer Inspection Asset a été conçu pour fournir une solution de haute résolution, précise et fiable pour détecter les petites particules et autres défauts sur une grande variété de surfaces de masque et de wafer. Il a une vitesse d'inspection rapide et une excellente couverture de défaut, ce qui en fait un choix idéal pour la recherche et la production.