Occasion KLA / TENCOR / ICOS CI-T130 #293639085 à vendre en France

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ID: 293639085
Lead scanner Tray to tape / reel (10) PnP heads 3D: CCD: IVC-4000 Lens (QLM): RLM 2D: CCD: IVC-4000 Lens (RLM): RLM IS2 Top Mark: CCD: IVC-4000 Lens: 45mm Function: QFP TSOP BGA QFN BGA 5S SBH PIC (Double IC detecter) Normal Top Plate module TTH (component heigh module) QFN module Operating system: Windows XP.
KLA/TENCOR/ICOS CI-T130 est un équipement avancé d'inspection de masque et de wafer conçu pour fournir une précision, une vitesse et une qualité d'image inégalées dans la production de puces et de masques. Le système utilise une combinaison unique d'optique et de technologie d'imagerie pour fournir un niveau de précision inégalé et inspecter les tailles des fonctionnalités à moins de 0,003 microns. KLA CI-T130 est entièrement intégrée aux systèmes de polissage chimique-mécanique (CMP) et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), assurant des résultats cohérents en mesurant automatiquement les profils de surface et la topographie sans défaut de chaque plaquette et masque. L'unité utilise également des algorithmes de vision puissants pour détecter des défauts critiques ou des pertes de rendement potentielles. La machine fournit également une véritable imagerie haute résolution avec ses optiques à double faisceau. Le premier faisceau est un motif OptiScan à champ lumineux, qui capture des données d'image complètes pour une inspection à 100 %, avec une résolution maximale de 300 mm/pixel. Le deuxième faisceau est un OptiScan à champ sombre LED, fournissant une résolution de 30 mm/pixel pour l'imagerie haute résolution, qui est utilisé pour détecter les défauts de sous-pixel et les caractéristiques de topographie granulaire qui ne peuvent pas être détectés avec l'optique plus brillante. ICOS CI-T130 utilise un moteur de traitement d'image de pointe doté d'un puissant logiciel de reconnaissance de motifs pour améliorer la clarté de l'affichage et réduire les faux positifs. L'outil fournit également une inspection couche par couche des plaquettes, permettant aux utilisateurs d'identifier et de diagnostiquer rapidement et avec précision les caractéristiques microscopiques et les défauts. Outre l'inspection des masques et des plaquettes, les capacités de CI-T130 comprennent également la métrologie intégrée, la priorisation des échantillons et la classification des défauts. Il dispose également d'un actif intégré d'enregistrement des données RCP, qui permet aux utilisateurs de suivre les métriques entrantes et sortantes, leur offrant une vue d'ensemble de la performance globale de leur chaîne de production. Dans l'ensemble, TENCOR CI-T130 offre des capacités d'inspection, d'imagerie et de métrologie inégalées pour produire des circuits intégrés et des masques de haute qualité. Avec sa précision, sa rapidité et sa qualité d'image de pointe, les utilisateurs peuvent faire confiance à KLA/TENCOR/ICOS CI-T130 pour détecter et résoudre rapidement et avec précision toute perte de rendement potentielle.
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