Occasion KLA / TENCOR / ICOS WI-2000 #293639004 à vendre en France

Le masque KLA/TENCOR/ICOS WI-2000 est un outil innovant utilisé par l'industrie des semi-conducteurs pour détecter les défauts d'échelle des nanomètres dans les masques lithographiques. Il est capable de détecter des défauts jusqu'à 0,39 µm de taille avec une précision de 0,1 µm, tout en trouvant simultanément des anomalies de masque et de topologie de substrat. De plus, la reconnaissance automatique des fonctions de KLA WI-2000 élimine l'inspection manuelle et l'isolement précis des défauts, ce qui entraîne une grande efficacité du processus. ICOS WI-2000 comprend plusieurs modules. Son premier module est un système optique qui est conçu pour délivrer des images haute résolution sur de larges portions de la plaquette. Cette unité utilise un moniteur de 21 pouces afin d'afficher des images SEM. Il est composé d'un microscope, d'un capteur d'imagerie breveté à double balayage et d'une caméra d'imagerie CCD. En outre, il est conçu pour réduire les vibrations et éliminer les distorsions, fournissant des images extrêmement précises à la machine de contrôle intégrée. L'outil de contrôle intégré traite ensuite les images pour la détection des défauts et des défectuosités. Il met en œuvre plusieurs algorithmes, tels que la méthode d'entropie maximale, la corrélation de niveau de gris, l'histogramme de bord et la culture de région, afin de détecter avec précision et rapidement les défauts de l'échelle nanométrique. De plus, l'actif est capable d'identifier des caractéristiques complexes, telles que la largeur des lignes, le pontage, la topologie de surface, la rugosité des bords et le matériau intervenant. En outre, WI-2000 dispose de multiples solutions de connectivité et est capable de travailler avec les systèmes CAO et CIM. Cela accroît encore l'efficacité et la productivité du modèle en rationalisant l'échange de données avec d'autres systèmes. Il dispose également d'une interface humaine ultra-sensible, rendant le contrôle, la surveillance et les procédures de base rapides et simples. En résumé, KLA/TENKORTENCOR WI-2000 est un équipement avancé d'inspection des masques et des plaquettes, conçu pour détecter les défauts de sous-microns dans les masques lithographiques avec précision, précision et une vitesse exceptionnelle. Des modules multiples, des solutions de connectivité puissantes et une interface conviviale améliorent encore les performances du système, ce qui en fait un outil d'inspection précieux pour les industries des semi-conducteurs.