Occasion KLA / TENCOR / ICOS WI-2250 #293650418 à vendre en France
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L'équipement KLA/TENCOR/ICOS WI-2250 Masque et Wafer Inspection est un système d'imagerie de précision utilisé dans des applications telles que la micro-électronique et le stockage de données. Il fournit une image haute résolution de la surface des substrats avec un champ de vision jusqu'à 400 mm. Il permet une inspection détaillée des caractéristiques de surface du masque et de la plaquette grâce à sa technologie sophistiquée comme la reconnaissance de motifs, le sectionnement automatique et les algorithmes avancés. Les caractéristiques clés du WI-2250 KLA comprennent une zone d'imagerie de 8 pouces, une zone de vision de 4 pouces et une capacité de zoom haute résolution pouvant atteindre 16x. Sa vitesse d'imagerie et le temps à la première image peuvent être personnalisés en fonction de l'application spécifique. L'unité dispose d'une résolution haute définition pour l'inspection multidimensionnelle des plaquettes ainsi que pour l'inspection des masques. Les outils d'amélioration d'image intégrés offrent une excellente netteté d'image et de contraste, ainsi qu'une gamme d'options d'affichage d'image. ICOS WI-2250 propose également des algorithmes d'imagerie avancés qui permettent à l'utilisateur de repérer même les moindres défauts ou défauts sur les surfaces de masque et de plaquette. Il est compatible avec les masques standards utilisés dans les applications de masquage, et les matériaux de plaquettes compatibles comprennent le silicium, semiconducteur, photomasque et quartz. La machine Mask & Wafer Inspection est équipée d'une chambre à vide avec commande électronique d'aspiration et arrêt automatique programmable. Ceci assure un contact scellé approprié et maintenu en place sans endommager le masque ou la plaquette. Le vide aide également à transférer la chaleur et la pression le long de la surface, ce qui contribue à réduire l'usure sur la surface du masque ou de la plaquette. En outre, WI-2250 dispose d'un outil de détection P et DR qui aide à maximiser la résolution pour détecter les petits défauts. L'actif PDR permet aux utilisateurs de surveiller tout mouvement de particules à la surface. Le modèle a également la capacité de détecter les surfaces contaminées. Dans l'ensemble, TENCOR WI-2250 de KLA est un masque haute performance et un équipement d'inspection de plaquettes qui fournit une excellente résolution d'image et divers outils de traitement d'image. Sa technologie d'imagerie intégrée, son alignement précis entre les images et le masque, et sa pression sous vide directe contribuent à une inspection précise et fiable. Ses algorithmes avancés d'imagerie et de détection permettent également de détecter et de résoudre rapidement les défauts ou défauts les plus infimes.
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