Occasion KLA / TENCOR ILM 2367 #9024433 à vendre en France

KLA/TENCOR ILM 2367 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour permettre aux fabricants de semi-conducteurs d'accélérer les processus de production et d'améliorer les rendements. Le système combine la lithographie par faisceau ionique focalisé (FIB) avec une technologie d'imagerie avancée pour détecter les défauts et l'intégrité structurelle dans chaque masque et plaquette créé pendant le processus de production. Il est alimenté par une technologie brevetée d'imagerie OptiFIBER™ qui utilise plusieurs canaux de signaux optiques pour obtenir des images 3D précises des objets scannés. KLA ILM 2367 utilise une architecture ouverte et évolutive capable de configurations multiples allant d'une seule station FIB centrée sur une plaquette à une unité entièrement personnalisée avec 12 stations wafer et deux systèmes FIB intégrés. Cela permet à la machine de scanner jusqu'à 1200 échantillons de masque et de plaquette en moins de 10 minutes. Une grande attention aux détails a également été accordée lors de l'élaboration du mécanisme de positionnement des échantillons de l'outil qui permet d'obtenir des positions d'échantillons précises et reproductibles. De plus, un atout FIB intégré permet l'imagerie locale avec des grossissements plus élevés et des temps d'observation plus longs à différents endroits sur le même échantillon. TENCOR ILM 2367 est également livré avec une interface de visualisation conviviale pour contrôler l'imagerie et la manipulation de spécimens à partir de n'importe quel PC ou ordinateur portable. Cela offre un accès facile à une variété de paramètres de qualité d'imagerie et de positionnement, ce qui permet à l'opérateur de personnaliser et de définir rapidement des paramètres pour obtenir d'excellents résultats. Dans les résultats de l'inspection, ILM 2367 est capable de détecter et de classer les types de défauts extrêmement rapidement. Il est capable de détecter les particules, l'adhérence et d'autres contaminants jusqu'aux plus petits niveaux. Il utilise également un mécanisme d'imagerie 3D pour effectuer des mesures précises de toute surface et structure courbe. De plus, le modèle peut détecter les spurs, les variations topographiques, la résistance à la passerelle et d'autres caractéristiques microstructurales. KLA/TENCOR ILM 2367 dispose également de plusieurs modules matériels et logiciels pour une productivité et une fiabilité accrues. Il s'agit notamment de systèmes avancés d'acquisition de données, d'étapes de nanopositionnement et d'un module de détection rapide pour l'analyse rapide des défauts. De plus, il existe un puissant algorithme de post-traitement pour la segmentation des images, la détection des défauts et la classification. Enfin, l'équipement peut fonctionner dans vos outils d'accueil préférés pour une intégration facile dans les lignes de production existantes. Dans l'ensemble, KLA ILM 2367 est un puissant système d'inspection des masques et des plaquettes qui offre un moyen fiable et précis de détecter et de classer divers défauts jusqu'à l'échelle des sous-microns. Il dispose d'une vitesse de balayage rapide et précise, d'excellentes capacités d'imagerie, ainsi que de puissants modules matériels et logiciels pour augmenter la productivité et l'efficacité. En tant que telle, cette unité contribuera à assurer des rendements plus élevés et une réduction des déchets dans la production de semi-conducteurs.