Occasion KLA / TENCOR LWS 3000 CFI #293608931 à vendre en France

KLA / TENCOR LWS 3000 CFI
ID: 293608931
Wafer measurement system.
KLA/TENCOR LWS 3000 CFI est un équipement informatique d'inspection de masque et de plaquettes conçu pour une large gamme de procédés de production de semi-conducteurs. Le système se compose d'un outil d'inspection principal, d'une unité d'imagerie haute vitesse à haute résolution, d'un sous-système d'imagerie haute vitesse et de contrôle des mouvements, d'un sous-système de vision intégrée et d'un ensemble d'outils d'affichage, d'analyse et de métrologie. La fonction principale de KLA LWS 3000 CFI est l'inspection d'images de résolution fines et ultrafines d'objets opaques et transparents tels que masques, plaquettes et autres photomasques. La machine a la capacité de mesurer et de comparer des objets et des caractéristiques extrêmement petits avec une précision submicronique. Cela permet des niveaux extrêmement élevés de détection des défauts, de résolution des défauts et de débit. L'outil d'imagerie haute vitesse met en oeuvre l'interférométrie laser multicanal et l'imagerie de contraste chromatique par phase, polarisation et détection électrique multi-longueurs d'onde. Cela permet des mesures 3D, tomographiques et interférométriques en temps réel de la hauteur, de la largeur, de la profondeur, de l'inclinaison et de la bande z. Le sous-système de contrôle de mouvement permet de suivre et de corriger les petits mouvements de l'ordre des fractions d'un micron. Ceci assure des résultats supérieurs aux défauts difficiles tels que la saturation légère et les différentiels de pont de ligne. Le sous-système de vision intégrée combine l'imagerie numérique et des algorithmes sophistiqués pour garantir la précision de localisation des défauts et une répétabilité fiable. Une gamme d'outils logiciels exclusifs offre une grande variété de fonctionnalités, y compris le traitement du signal, l'inspection et la classification automatiques, le marquage des défauts, l'extension de la carte, la recherche d'images, le post-traitement, les mesures et la génération de rapports. Cela améliore considérablement les capacités d'imagerie et de métrologie de TENCOR LWS 3000 CFI. LWS 3000 CFI est un outil de pointe pour les procédés de production de semi-conducteurs et fournit des résultats supérieurs pour les petits lots et les besoins de production de volume élevé. L'actif est bien adapté pour les inspections de masques et de plaquettes avec des niveaux extrêmes de précision, de résolution de défauts et de débit.
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