Occasion KLA / TENCOR MPV CD2 AMC #9043963 à vendre en France

KLA/TENCOR MPV CD2 AMC est un équipement d'inspection de masque et de plaquettes de pointe qui combine des algorithmes de mesure innovants et des technologies d'acquisition d'images à grande vitesse pour fournir une inspection et une analyse précises des masques et plaquettes de semi-conducteur. Il est conçu pour détecter et analyser les défauts sur les masques et dans le processus de fabrication des dispositifs semi-conducteurs, permettant une production plus fiable et efficace. Le système se compose d'une console de commande principale et d'un microscope numérique haute résolution, tous deux connectés à un matériel PC puissant et fiable. Cela permet un traitement et une mesure rapides des images du masque et des plaquettes. Le microscope comprend un zoom numérique 4x de 12 mégapixels qui est conçu de façon optimale pour inspecter les fonctionnalités à petite échelle sur les masques et les plaquettes. En outre, l'unité comprend plusieurs logiciels spécialisés, ce qui permet de sélectionner facilement l'outil le plus approprié pour différentes tâches d'inspection. Le module principal de KLA MPV CD2 AMC est capable de collecter des données tridimensionnelles jusqu'à 8k x 8k résolution, permettant des performances inégalées lors de l'inspection des plaquettes et des masques. Il comprend une machine d'acquisition d'images à grande vitesse, permettant un balayage à grande vitesse des plaquettes pendant l'inspection. L'outil dispose également d'algorithmes spécialisés, permettant de détecter rapidement des défauts aussi petits que 0,1 micron. En outre, il dispose d'algorithmes sélectionnables par l'utilisateur qui peuvent être utilisés pour analyser les données avec une précision et une précision améliorées. L'actif comprend également un puissant logiciel de mesure, qui permet aux utilisateurs d'évaluer rapidement la taille et la forme des structures, y compris les dimensions critiques, ainsi que les complexités de surface. Ce logiciel peut être utilisé pour détecter de très petits défauts, donnant aux fabricants un modèle plus fiable pour inspecter les procédés délicats de fabrication des masques et des plaquettes. TENCOR MPV CD2 AMC est un équipement vraiment fiable et innovant pour l'inspection des masques et des plaquettes. Sa combinaison de matériel puissant et d'algorithmes innovants crée un système impressionnant idéal pour détecter de petits défauts dans les processus de fabrication de plaquettes et masques à grande échelle. Ses capacités d'acquisition d'images à grande vitesse permettent une inspection précise et efficace, ce qui en fait un outil puissant pour les fabricants de dispositifs semi-conducteurs complexes et à petite échelle.