Occasion KLA / TENCOR SCD-200 #9155471 à vendre en France

Le masque KLA/TENCOR SCD-200 et l'équipement d'inspection des plaquettes sont spécialement conçus pour répondre aux exigences des applications d'analyse et de production des défaillances les plus difficiles. Il combine des performances élevées, une grande vitesse et une grande précision avec la flexibilité et l'évolutivité nécessaires pour caractériser les masques et les plaquettes aux niveaux de l'appareil, du circuit et de la disposition. Les capacités d'inspection des masques et de détection des défauts critiques du KLA SCD-200 sont basées sur l'imagerie de luminance quad. En fournissant quatre vues distinctes de la caméra, l'éclairage exceptionnel des caractéristiques topologiques et colorimétriques du masque peut être réalisé pour les techniques d'éclairage de champ lumineux et de champ noir. Cela permet une résolution, une détection et une caractérisation plus précises des défauts quasi critiques sur les masques et les plaquettes. Le système offre également une suite complète d'outils d'examen redondants et semi-automatisés. En combinant une interface utilisateur intuitive avec une technologie avancée de reconnaissance des motifs et des algorithmes de détection des défauts, TENCOR SCD-200 peut détecter les plus petits défauts rapidement et avec précision. Les puissantes capacités de segmentation et d'étiquetage contribuent à réduire le temps de développement et à améliorer la précision des inspections. L'unité d'inspection est également équipée d'algorithmes de production éprouvés, qui utilisent des techniques sophistiquées de détection de flou, de détection de bord et d'analyse de texture. Ceux-ci sont conçus pour « apprendre » le rapport signal sur bruit de chaque masque ou plaquette, permettant d'améliorer les capacités de détection et de caractérisation des défauts, notamment pour des profils de circuits 3D difficiles. La machine comprend également un ensemble complet de capacités de visualisation et d'analyse. Les vues 3D interactives peuvent fournir des informations détaillées sur les défauts quasi critiques, tels que les violations de recouvrement, la résistance aux irrégularités de flux, les compensations CD (dimension critique) et les erreurs de suivi de conception. Les outils de visualisation avancés permettent l'analyse de masque et de plaquette la plus complète disponible aujourd'hui. SCD-200 propose également un certain nombre de solutions environnementales, dont un outil de refroidissement en boucle fermée à trois étages. Cela permet de s'assurer que l'actif fonctionne dans une plage de température constante pour une plus grande stabilité et fiabilité. Supplémentairement, le modèle d'inspection est compatible avec les bases de données conciliantes SEMI-S2 populaires, en rendant possible d'archiver des rapports de défaut et facilement les récupérer plus tard pour la révision de plus. En résumé, le masque KLA/TENCOR SCD-200 et l'équipement d'inspection des plaquettes fournissent un ensemble complet de caractéristiques d'inspection, d'analyse et d'environnement. Il est capable de fournir le plus haut niveau de précision, permettant un délai de commercialisation plus rapide et de meilleurs rendements de produit.