Occasion KLA / TENCOR SL515 #9197021 à vendre en France

KLA/TENCOR SL515 Mask & Wafer Inspection Equipment est un système d'inspection des défauts à haut débit qui peut traiter une grande variété de substrats. Il peut détecter efficacement de minuscules défauts dans une variété de procédés semi-conducteurs, tels que des photomasques, des plaquettes, des ébauches de masque, des films déposés et des lignes de résistance développées. L'unité dispose d'un champ de vision de 200mm à 300mm et utilise trois technologies d'imagerie, dont l'optique haute résolution, la fluorescence et l'imagerie aux rayons X. KLA SL515 utilise à la fois le champ lumineux et l'éclairage oblique, ce qui améliore la détection des défauts. Son mode de développement fournit une fonction de détection des bords pour la reconnaissance des bords de motifs et pour l'alignement des masques et le contrôle de la focalisation. La machine comprend des outils d'analyse paramétriques et non paramétriques pour vérifier les données recueillies à partir des masques et plaquettes inspectés. Il fournit également des capacités de déclaration et de stockage de données qui assurent la communication sécurisée de données de qualité entre l'outil et d'autres sites d'ingénierie et de production. L'actif fournit des résultats précis dans une fraction du temps qu'il prend généralement d'autres systèmes de taille similaire. Il peut détecter et mesurer des défauts aussi petits que 20 nanomètres et reconnaître des caractéristiques vues dans la gamme de 350 nanomètres, qui dépasse les normes fixées pour la production. Il comprend des outils pour la classification des défauts, le suivi des corrélations, l'identification des défauts, le suivi des défauts sur plusieurs plaquettes, des algorithmes d'appariement des fonctionnalités et l'intégration avec les systèmes logiciels 3rdparty. Au cœur du modèle se trouve la technologie d'optimisation d'image brevetée qui permet de déterminer les meilleurs paramètres d'équipement pour chaque tâche d'inspection. Cela permet au système de détecter et de classer avec précision les défauts et les caractéristiques en identifiant les caractéristiques les plus importantes pour le processus d'inspection. Les algorithmes sophistiqués de l'unité utilisent alors ces informations pour optimiser les paramètres d'acquisition d'image afin de maximiser le défaut et les capacités de différenciation de la machine. En outre, TENCOR SL 515 est facile à intégrer avec l'infrastructure, le logiciel et les outils de contrôle de processus existants grâce à sa bibliothèque complète d'API et d'interfaces existantes. L'outil dispose d'un temps de réponse rapide et assure un contrôle serré des processus, ce qui en fait une option idéale pour la fabrication de semi-conducteurs à haut volume. KLA/TENCOR SL 515 Masque et Wafer Inspection Asset est une solution fiable et puissante pour la détection des défauts de protection et de niveau wafer.