Occasion KLA / TENCOR SP1-DLS #9099729 à vendre en France

KLA/TENCOR SP1-DLS Masque & Wafer Inspection Equipment est un système d'imagerie automatisé conçu pour détecter les défauts des plaquettes semi-conductrices ainsi que des masques et des films utilisés dans la fabrication de circuits intégrés. L'unité utilise une variété de technologies de pointe telles que l'imagerie de champ lumineux, de champ noir et de champ de diffusion, et une gamme de filtres optiques spécialisés, lui permettant d'examiner les surfaces des plaquettes et les épaisseurs de film à une résolution de seulement 0,8 μ m. La machine est constituée d'un module d'inspection qui contient un ou plusieurs ports d'inspection de plaquettes, une série de lampes d'éclairage et d'optique, et une suite de logiciels d'acquisition et d'analyse d'images associés. Le port d'inspection est une plate-forme optique modulaire qui peut être configurée en fonction des besoins et de l'application du client. Il dispose d'un étage x-y mobile, d'un outil optique zoomable de 20x à 1000x, et d'un atout d'éclairage de champ lumineux en forme d'anneau qui permet au modèle d'imiter même les plus petites fonctionnalités. L'équipement KLA SP1 DLS utilise une gamme d'optiques spécialisées qui permettent d'optimiser le système pour différents types de détection de défauts. Il s'agit notamment de Transmissive Systems Optics (TSO) qui utilise deux caméras pour capturer des images 2D de plaquettes, et de Reflective Systems Optics (RSO) qui est optimisé pour la détection des défauts à la surface des masques et des films. L'unité TENCOR SP 1-DLS dispose d'un logiciel avancé d'analyse d'image qui simplifie le processus de détection des défauts. Grâce à des algorithmes sophistiqués, la machine est capable de détecter la présence de défauts dans les images de champ lumineux et de champ noir. L'outil peut même détecter des défauts invisibles à l'œil nu, tels que des particules et des taches brûlées. En outre, l'actif a un niveau élevé de précision et de répétabilité, ce qui signifie que les clients peuvent être sûrs qu'il détecte avec précision les défauts d'un produit. En conclusion, SP 1-DLS Mask & Wafer Inspection Model est un équipement d'imagerie automatisé de pointe conçu pour détecter même les plus petits défauts dans les plaquettes semi-conductrices, masques et films. Il utilise une gamme de technologies de pointe, y compris Transmissive and Reflective Systems Optics, et une suite de logiciels sophistiqués d'analyse d'image.